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標(biāo)題: 一直在追趕，中國(guó)芯片和光刻機(jī)發(fā)展史 [打印本頁(yè)]

作者: 竹筠俠 時(shí)間: 2020-9-4 12:49
標(biāo)題: 一直在追趕,，中國(guó)芯片和光刻機(jī)發(fā)展史
1. 80年代“芯片項(xiàng)目下馬”或“光刻機(jī)下馬”,，這是絕對(duì)的胡扯，誰(shuí)信就是上當(dāng)了,。改開(kāi)后各時(shí)期中國(guó)光刻機(jī)都在研發(fā),，技術(shù)被拉開(kāi)差距，主要原因基礎(chǔ)科研能力不足,，摩爾定律跟不上,。
2. 1974-1978年甘肅平?jīng)龅碾娮庸I(yè)部45所開(kāi)發(fā)了“半自動(dòng)光刻機(jī)”GK-3型（圖），制程是5微米,。自動(dòng)送片,，預(yù)對(duì)準(zhǔn)精度0.3毫米，自動(dòng)曝光收片,，光源與工作臺(tái)組成一個(gè)機(jī)器,。半自動(dòng)是說(shuō)，需要人看顯微鏡來(lái)微調(diào)對(duì)準(zhǔn),。對(duì)準(zhǔn),，是光刻機(jī)最大的問(wèn)題之一，光刻機(jī)的英文名就是Mask Aligner。
3. 80年代不少單位都來(lái)搞光刻機(jī)了,。45所仍然是主力,，開(kāi)發(fā)出了分布曝光的BG101（1979-1984年研發(fā)，2微米）,，后面BG101J（1991-1994,，1.5微米）、BG102（1990-1995,，0.8微米）,、BG105（1996-2000，0.5微米）,，都按節(jié)奏研發(fā)出來(lái)了,。
4. 80年代還有，中科院半導(dǎo)體所1978-1981年研制的JK-1型接近式光刻機(jī),，2.5微米,；1982年科學(xué)院109廠與哈爾濱刃具廠阿城繼電器廠聯(lián)合研制的KHA75-1型接近式光刻機(jī)；上海光機(jī)所1985年的3微米掃描式投影光刻機(jī),。這些全都是半自動(dòng)的,，都需要人看顯微鏡微調(diào)，所以基本是2-5微米的水平,。
5. 中科院光電所1990年驗(yàn)收的IOE1010G光刻機(jī)，結(jié)合上海光機(jī)所掃描與45所分步兩種技術(shù)的優(yōu)點(diǎn),，1.5-2微米,。它還是中國(guó)第一個(gè)全自動(dòng)光刻機(jī)，用電視圖像算法自動(dòng)對(duì)準(zhǔn),。后面BG101J也做了,，90年代中國(guó)的光刻機(jī)才算是全自動(dòng)了。
6. 2000年以后,，45所搞光刻機(jī)的人轉(zhuǎn)到上海微電子裝備SMEE去搞,，02專(zhuān)項(xiàng)。45所繼續(xù)搞集成電路制造其余裝備的開(kāi)發(fā),。SMEE的光刻機(jī)目前最新的是90nm（0.09微米）,，據(jù)說(shuō)2021年出28nm的，但沒(méi)有官方消息,。
7. 改開(kāi)后,，有不少單位在搞光刻機(jī)，絕對(duì)沒(méi)有中斷研發(fā)的事,，應(yīng)該說(shuō)投入比改開(kāi)前大多了,。這也不是多難的決策，看清楚芯片業(yè)與芯片制造裝備的意義并不難,。
8. 但可以看出,，中國(guó)光刻機(jī)技術(shù)進(jìn)步不是太大,。相比外國(guó)，中國(guó)光刻機(jī)陷入了在低水平小幅改進(jìn)的困境,，拿個(gè)電視圖像開(kāi)發(fā)個(gè)圖像對(duì)準(zhǔn)算法就是升級(jí),。從技術(shù)上來(lái)說(shuō)，這主要是基礎(chǔ)科研能力的跟不上,，先進(jìn)光源搞不定,、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)精度上不去、各種子系統(tǒng)能力嚴(yán)重不足,。種種原因,，在2000年以后，就沒(méi)有跟上業(yè)界主流的193nm的DUV光源+浸潤(rùn)式光刻等先進(jìn)技術(shù)不斷提高制程的過(guò)程,，更不要說(shuō)EUV光源13.5nm的國(guó)際最頂尖技術(shù)了,。
9. 也就是說(shuō)，國(guó)外芯片制造在按摩爾定律發(fā)展,，而中國(guó)在早期還能跟上,，差距5-7年之類(lèi)的。隨著倍數(shù)越翻越高,，對(duì)基礎(chǔ)科研的能力要求越來(lái)越高,，中國(guó)就跟不上了。這不是改開(kāi)后放棄了,，而是技術(shù)規(guī)律,。絕大多數(shù)技術(shù)，外國(guó)是線(xiàn)性或者停滯發(fā)展,，改開(kāi)以后中國(guó)技術(shù)追超成效非常好,。
10. 現(xiàn)在中國(guó)基礎(chǔ)科研相對(duì)能力比改開(kāi)初期要強(qiáng)不少了，所以連光刻機(jī)芯片制造都可以追回來(lái),，就是要的時(shí)間會(huì)比其它任務(wù)長(zhǎng),。

作者: 丹楓911 時(shí)間: 2020-9-4 15:14
我原來(lái)就是45所的，部門(mén)的一個(gè)師傅就是2000年去了上海微高搞光刻機(jī),，設(shè)備沒(méi)搞出來(lái),，湊錢(qián)在上海買(mǎi)了套房子，發(fā)達(dá)了

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