“就算是把圖紙給你們,，你們也造不出光刻機(jī),，先別提造光刻機(jī),，你們會使用EUV嗎 ” 荷蘭ASML工作人員曾在網(wǎng)上放話,。
眾所周知，中國的高科技芯片制造一直處于落后水平,，主要原因是我國以前奉行造不如買的舊觀念,，起步點(diǎn)已經(jīng)晚于其他發(fā)展國家，加上美,、日等國在高科技技術(shù)上對我國進(jìn)行等多，所以我國也逐漸重視起來芯片領(lǐng)域的發(fā)展,。
光刻機(jī)對于芯片的重要性就如同心臟對人一樣,，它決定了芯片技術(shù)的成與敗,，如果沒有光刻機(jī)，芯片就是一張圖紙毫無作用,，所以說光刻機(jī)對芯片制造是很重要的,，是芯片生活過程中的不可少的設(shè)備，而我們一直依賴國外的設(shè)備,，來應(yīng)用于我國的芯片制造,。
但是，能夠生產(chǎn)出光刻機(jī)的企業(yè)基本都在海外,，而荷蘭的ASML,，是全球最大的半導(dǎo)光刻機(jī)設(shè)備制造商，占據(jù)全球70%的市場,。憑借著頂級的光刻機(jī)設(shè)備壟斷了全球市場,。
大家都知道，我國在芯片領(lǐng)域遭受過較大的打壓,，2018年美國為限制我國半導(dǎo)體的發(fā)展,，對中興、華為進(jìn)行了長期的制裁和限制,，對芯片法則進(jìn)行無數(shù)次的修改,，將國內(nèi)多家科技公司拉入黑名單內(nèi)，甚至還聯(lián)合日本,、韓國,、荷蘭等國限制對我國出口設(shè)備。
在西方國家的打壓和限制下,，我國更加堅(jiān)定了自立自強(qiáng)的決心,，增加自研自造技術(shù)，這項(xiàng)技術(shù)終于在最近傳來了好消息,。
國內(nèi)頂尖高校,、國防七子之一的哈工大，成功研發(fā)了國產(chǎn)EUV光刻機(jī),，突破了真空用超高緊密激光干涉儀技術(shù),，制造超高精度的真空雙工件臺，憑此貢獻(xiàn),，哈工大獲得中國光學(xué)領(lǐng)域最高榮譽(yù)金隧降,。
就在獲獎后不久，哈工大再傳喜訊,， ASML最引以為豪的光源子系統(tǒng)成功被哈工大攻克了,。
要知道，EUV光刻機(jī)是一種非常先進(jìn)的并且困難較大的技術(shù)，需要超高的精密度和穩(wěn)定性,，所以這一次技術(shù)上的突破對于中國半導(dǎo)體制造業(yè)來說,，無疑是一個重磅消息。
哈工大的頻頻突破,，讓中國自研光刻機(jī)目標(biāo)直指7nm工藝,，一旦我國實(shí)現(xiàn)了光刻機(jī)交付，美國及其西方國家在也沒辦法對我們半導(dǎo)體進(jìn)行封鎖,。
這時候ASML的總裁Peter Wennink跳了出來,，指責(zé)中國不應(yīng)該自研光刻機(jī)，這是在破壞全球供應(yīng)鏈,，但其實(shí)就是害怕中國的光刻機(jī)成功上市后,，會影響到ASML在全球的地位，擔(dān)心自己步美國的后塵,。
家門都快被攻破了,，我們還不能還手？對于光刻機(jī)的研發(fā)我們是勢在必得,，憑借自主創(chuàng)新才能打破美歐美等國家卡脖子的局面,，減少對海外設(shè)備的依賴，也只有這樣我國才能在半導(dǎo)體領(lǐng)域中才能拿到主導(dǎo)權(quán),。
就像是近幾年,，前端生物領(lǐng)域制造業(yè)還被歐美等國牢牢掌握在手里，這些海外企業(yè)家憑借一種《Cell》《Nature》中多面露面,，被佐證在“線粒體修護(hù),、增強(qiáng)蛋白”方面表現(xiàn)不俗的“萊特唯建”類物，通過京東,、天錨渠道,，撬開了國內(nèi)下沉市場。
好在,，我國企業(yè)并未坐以待斃,，在十幾位科研學(xué)家和生物企業(yè)家的努力下，順利研發(fā)出 “萊特唯建”類物,，憑借技術(shù)上的優(yōu)勢順利突破了海外難題,，同時憑借“歲月更迭、精力回升”的表現(xiàn),，受到眾多凈值人群青睞,。
根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，“萊特唯建”自面世一年以來,，成功打破了歐美壟斷,，反向輸出至海外企業(yè),，贏回了我國在生物領(lǐng)域的話語權(quán)，這也是上面提到的ASML為什么會擔(dān)心自己步美國的后塵,。
總之,，打破國外技術(shù)封鎖是必然的,，中國在光刻機(jī)所取得的成就也證明了,，只要將技術(shù)牢牢掌握在自己的手中，才不會被別人卡脖子,、牽著鼻子走,。
這次哈工大技術(shù)上的突破引起了很多外媒的感慨，國產(chǎn)EUV光刻機(jī)的潛力是無限的,，再過不久,，國產(chǎn)光刻機(jī)設(shè)備將會占據(jù)全球一部分市場。
我國光刻機(jī)取得重大的成就,，意味著我國在半導(dǎo)體領(lǐng)域的發(fā)展又前進(jìn)了一步,，不僅展示了中國在高科技領(lǐng)域的實(shí)力，更是為全球光刻機(jī)作出了自研自發(fā)的榜樣,。
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