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標(biāo)題: 如何局部淬火 [打印本頁]

作者: shaojunhui    時(shí)間: 2009-11-26 16:24
標(biāo)題: 如何局部淬火

作者: zht_udb    時(shí)間: 2009-11-26 16:49
中高頻和激光淬火,。
作者: shaojunhui    時(shí)間: 2009-11-26 17:02
2# zht_udb
) g# Q4 h2 c# X樓上的朋友 能不能解釋詳細(xì)一些 或者有圖片解說以下 我不太懂這個(gè)
作者: zht_udb    時(shí)間: 2009-11-29 07:44
不懂沒關(guān)系,,找相應(yīng)的廠家就可以。中高頻淬火變形較大,,價(jià)格低,;激光淬火變形較小,,價(jià)格高。
作者: 唐軻    時(shí)間: 2009-11-29 09:12
不知道硬化層深度要求多少,,熱處理后是否對功能區(qū)域有再加工的要求,,建議調(diào)質(zhì)預(yù)處理,全部成型后,,高頻淬火前留0.2余量,,淬火后再精加工。功能區(qū)粗糙度要求不高,,具體看客戶要求,。




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