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標(biāo)題: 填充陣列做高爾夫球,，陣列不均勻 [打印本頁(yè)]

作者: 漠漠mo 時(shí)間: 2017-9-30 09:12
標(biāo)題: 填充陣列做高爾夫球,，陣列不均勻
在球體上挖了一個(gè)小凹槽,，做填充陣列后發(fā)現(xiàn)越往中間凹槽越深,，求解這是什么原因造成的？需要修改哪些參數(shù)才能使得填充陣列在球體上的凹槽深度均勻,？

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作者: xueqingchao 時(shí)間: 2017-9-30 10:27
沒(méi)有定義好,，在截面里定義截面線法向與球面,。

作者: 漠漠mo 時(shí)間: 2017-9-30 10:30

xueqingchao 發(fā)表于 2017-9-30 10:27$ n" l& Z& D" X4 x" i
沒(méi)有定義好,，在截面里定義截面線法向與球面。

除去與陣列凹槽相對(duì)的面,，畫(huà)好的圓在更換草繪界面時(shí),，在余下的兩個(gè)平面顯示的都是不在球體的中心圓點(diǎn),，這要怎么處理？

作者: 漠漠mo 時(shí)間: 2017-9-30 11:14

漠漠mo 發(fā)表于 2017-9-30 10:30
% M" [ ]" ?0 |* S. B; W除去與陣列凹槽相對(duì)的面,，畫(huà)好的圓在更換草繪界面時(shí),，在余下的兩個(gè)平面顯示的都是不在球體的中心圓點(diǎn)，這 ...

不好意思啊,，可能是我太笨了,，試不出來(lái)

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