【投資5000多萬 俄羅斯計(jì)劃研發(fā)全新EUV光刻機(jī):ASML都沒有】
光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一,,EUV光刻機(jī)全球也只有ASML公司能夠研發(fā),、生產(chǎn),但它的技術(shù)限制也很多,,俄羅斯計(jì)劃開發(fā)全新的EUV光刻機(jī),使用的是X射線技術(shù),,不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片,。
光刻機(jī)的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜,不過決定光刻機(jī)分辨率的主要因素就是三點(diǎn),,分別是常數(shù)K,、光源波長及物鏡的數(shù)值孔徑,波長越短,,分辨率就越高,,現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)使用的是極紫外光EUV,波長13.5nm,,可以用于制造7nm及以下的先進(jìn)工藝工藝,。
俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現(xiàn)在就接下了貿(mào)工部的6.7億盧布資金(約合5100萬元人民幣),也要開發(fā)制造芯片的光刻機(jī),,而且號稱要達(dá)到EUV級別,,但技術(shù)原理完全不同,他們研發(fā)的是基于同步加速器和/或等離子體源”的無掩模X射線光刻機(jī),。
X射線光刻機(jī)使用的是X射線,,波長介于0.01nm到10nm之間,比EUV極紫外光還要短,,因此光刻分辨率要高很多,。
此外,X射線光刻機(jī)相比現(xiàn)在的EUV光刻機(jī)還有一個優(yōu)勢,,那就是不需要光掩模版,,可以直寫光刻,這也節(jié)省了一大筆費(fèi)用,。
正因?yàn)橛羞@么兩個特點(diǎn),,俄羅斯要研發(fā)的X射線光刻機(jī)優(yōu)勢很大,甚至被當(dāng)?shù)氐拿襟w宣傳為全球都沒有的光刻機(jī),ASML也做不到,。 從相關(guān)資料來看,,全球確實(shí)沒有能達(dá)到規(guī)模量產(chǎn)的X射線光刻機(jī),不過這種技術(shù)并不是現(xiàn)在才有,,不僅美國,、歐洲研究過,國內(nèi)也有科研機(jī)構(gòu)做了X射線光刻機(jī),,只是生產(chǎn)芯片的效率跟ASML的光刻機(jī)不能比的,,只適合特定場景。
不過俄羅斯在X射線及等離子之類的技術(shù)上有深厚的基礎(chǔ),,倒是可以期待下他們在新型光刻機(jī)上能走多遠(yuǎn),。 |