近期,,一則消息在各大視頻平臺廣為傳播,,稱清華大學(xué)EUV項目把ASML的光刻機巨大化,,實現(xiàn)了光刻機國產(chǎn)化,,并表示這個項目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地,。
對此,,中國電子工程設(shè)計院有限公司(下稱中國電子院)9月18日發(fā)聲,稱該項目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機工廠,,而是北京高能同步輻射光源項目(HEPS),。
北京高能同步輻射光源項目坐落于北京懷柔雁棲湖畔,是國家“十三五”重大科技基礎(chǔ)設(shè)施,,它是我國第一臺高能量同步輻射光源,,也是世界上亮度最高的第四代同步輻射光源之一。該項目早在2019年就開始建設(shè),、將于2025年底投入使用,。
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HEPS是干嘛用的呢?它的作用是通過加速器將電子束加速到6GeV,,然后注入周長1360米的儲存環(huán),,用接近光速的速度保持運轉(zhuǎn)。電子束在儲存環(huán)的不同位置通過彎轉(zhuǎn)磁鐵或者各種插入件時就會沿著偏轉(zhuǎn)軌道切線的方向,,釋放出穩(wěn)定,、高能量、高亮度的光,,也就是同步輻射光,。
中國電子院解釋稱,HEPS可以看成是一個超精密,、超高速,、具有強大穿透力的巨型X光機,它產(chǎn)生的小光束可以穿透物質(zhì),、深入內(nèi)部進行立體掃描,,從分子、原子的尺度多維度地觀察微觀世界,,HEPS是進行科學(xué)實驗的大科學(xué)裝置,,并不是網(wǎng)傳的光刻機工廠。 |