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機(jī)械社區(qū)
標(biāo)題:
關(guān)于電漿拋光與化學(xué)拋光及電化學(xué)拋光的區(qū)別,?
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作者:
andraw
時(shí)間:
2009-3-21 19:01
標(biāo)題:
關(guān)于電漿拋光與化學(xué)拋光及電化學(xué)拋光的區(qū)別,?
最近不銹鋼零件送去做表面處理時(shí),供應(yīng)商告訴我們有一種叫電漿拋光的方法,。
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印象中記得拋光方法無(wú)非就是機(jī)械拋光,,化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光三種方法,。
P: P/ A, Z" S8 w
電漿拋光是不是就是電化學(xué)拋光方法,,如果不是這種拋光方法與化學(xué)拋光和電化學(xué)拋光有什么區(qū)別嗎?
作者:
syw開(kāi)門(mén)造車
時(shí)間:
2009-3-22 00:02
andraw
網(wǎng)友好,!
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& F. @5 U# q" Y0 q" n, v
在看到你的這個(gè)帖時(shí),,我也不知道什么是電漿拋光,在幫你找資料的過(guò)程中,,
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我知道了,,具體見(jiàn)附件。
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syw 090322---00.02
作者:
andraw
時(shí)間:
2009-3-22 09:39
謝謝大元帥的幫助,!我有些感覺(jué)這個(gè)電漿拋光就是電化學(xué)拋光,。
作者:
syw開(kāi)門(mén)造車
時(shí)間:
2009-3-22 21:29
andraw 網(wǎng)友好!
4 d. l- O1 x9 s9 H7 q% f( E
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# `. `. C; m" P# `6 W. q# o4 }% G% l, D, j
是的,,就是電化學(xué)拋光,!
5 S- r- n2 |$ b" N0 w" b& Q
只是由于臺(tái)灣省和大陸所采用的文字制式的差異,導(dǎo)致理解上所產(chǎn)生的誤區(qū)而已,。
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: ^/ j7 h; u6 u: q
syw 090322---21.29
作者:
手拉手
時(shí)間:
2009-3-28 22:16
我分享了,! 不吱聲不仗義。
作者:
商機(jī)無(wú)處不在
時(shí)間:
2009-4-1 16:20
吱聲,,盡管我不感興趣
作者:
天使0
時(shí)間:
2009-4-1 21:40
我分享了,! 不吱聲不仗義
作者:
cl_jfox
時(shí)間:
2009-4-9 10:42
就是電化學(xué)拋光吧,以前記得老師提起過(guò)
作者:
fyx-tt
時(shí)間:
2009-4-10 10:02
下了就得頂,,謝謝樓主
作者:
xxsz
時(shí)間:
2010-3-7 18:06
下了,,謝謝樓主
作者:
buck
時(shí)間:
2010-7-7 10:49
回復(fù)
1#
andraw
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等離子拋光也稱電漿拋光。主要用于五金件產(chǎn)品的拋光以及真空鍍膜的前處理,,在表面處理行業(yè)屬于新的工藝,,本文將在等離子拋光的工作原理、應(yīng)用優(yōu)勢(shì)以及在表面處理行業(yè)的應(yīng)用來(lái)說(shuō)明它與真空鍍膜的協(xié)調(diào)性,。
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一,、 等離子拋光的工作原理
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等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài),是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象,,使氣態(tài)粒子部分電離,,這種被電離的氣體包括原子、分子,、原子團(tuán),、離子和電子。等離子就是在高溫高壓下,,拋光劑水溶,,電子會(huì)脫離原子核而跑出來(lái),原子核就形成了一個(gè)帶正電的離子,,當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時(shí)候可以成為等離子態(tài),,等離子態(tài)能量很大,,當(dāng)這些等離子和要拋光的物體摩擦?xí)r,頃刻間會(huì)使物體達(dá)到表面光亮的效果,。
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等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝,僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng),分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi),因此等離子化學(xué)活化工件表面,去除表面分子污染層,交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì),。
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等離子拋光的一些特性測(cè)驗(yàn):
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(1).拋光速率測(cè)試
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由圖1的測(cè)試數(shù)據(jù)顯示,液態(tài)等離子拋光對(duì)SUS303,、SUS304與SUS316等型號(hào)的不銹鋼材質(zhì)的拋光速率結(jié)果,。測(cè)試結(jié)果發(fā)現(xiàn)液態(tài)等離子拋光的拋光速率與基材種類關(guān)聯(lián)性小。但是,,拋光速率伴隨著外加電場(chǎng)的增加而增加,,拋光速率>1.0∪m/min,是傳統(tǒng)拋光法的十倍。
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我們亦可從圖1的測(cè)試結(jié)果發(fā)現(xiàn)250-290伏特,,拋光速率的順序?yàn)椋篠US316>SUS304>SUS303,。
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(2).粗糙度測(cè)試
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由圖2的測(cè)試結(jié)果發(fā)現(xiàn)303、304與316等型號(hào)的不銹鋼基材經(jīng)過(guò)液態(tài)等離子拋光后,,其粗糙度分別從約1vm大幅降至<0.1vm,,尤其是316基材粗糙度可減少至0.08vm。此拋光技術(shù)已接近納米級(jí)的拋光能力范圍內(nèi),。
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圖2的測(cè)試結(jié)果亦顯示,,液態(tài)等離子拋光對(duì)粗糙度減低的材質(zhì)順序?yàn)椋篠US316>SUS304>SUS303。
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(3).光澤度測(cè)試
W8 u% x! E# y3 ~) p
由圖3的測(cè)試結(jié)果發(fā)現(xiàn)303,、304與316等型式的不銹鋼基材經(jīng)過(guò)液態(tài)等離子拋光后,,其光澤度分別從約45%大幅曾增加至75%,、85%,、與95%。此乃表示基材從霧面結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)榫哏R面效果的光澤結(jié)構(gòu),。由此可以確定液態(tài)等離子拋光拋光后的基材符合工業(yè)產(chǎn)品外觀裝飾與材料特性的要求,。
* W0 k# B: A7 H1 O0 F8 ` G( n
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(4).硬度測(cè)試
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由圖4的測(cè)試結(jié)果發(fā)現(xiàn)303、304與316等型號(hào)的不銹鋼基材經(jīng)過(guò)液態(tài)等離子拋光后,,其硬度分別從約250HV維克硬度變化至280HV維克硬度,。
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測(cè)試結(jié)果表明無(wú)論基材材質(zhì)是SUS316、SUS304,、或SUS303,,其硬度都有正向提升。
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注:1.膜厚量測(cè):是由日制surfacecorder ET-4000, Kasaka Laboratory 測(cè)量,。
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2.粗糙度性質(zhì)測(cè)試:是由日制MVK-H100A2,,Akashi測(cè)量。
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3.表面組成:高分辨率掃描電子顯微鏡(SEM)觀測(cè),。
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二,、等離子拋光的優(yōu)勢(shì),。
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拋光技術(shù)是金屬表面處理的關(guān)鍵技術(shù)之一,拋光無(wú)論是在傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)還是在電子數(shù)碼產(chǎn)業(yè)中都是不可或缺的生產(chǎn)步驟,。拋光是對(duì)工件表面精加工的過(guò)程,,經(jīng)過(guò)拋光工序,工件表面粗糙度降低,,一般說(shuō)來(lái)伴隨著光澤度的提高,,工件拋光后其機(jī)械、物理及化學(xué)性能都有不同程度的改善,。例如,,粗糙度降低光潔度提高,耐腐蝕性提高,,缺口敏感性降低,,摩擦系數(shù)下降,磨損減少,。
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等離子拋光采用的拋光技術(shù)是一種完全不同于傳統(tǒng)方法的新型拋光技術(shù),,此拋光技術(shù)是根據(jù)電化學(xué)原理與化學(xué)反應(yīng)原理而研發(fā)設(shè)計(jì)的。其拋光技術(shù)不使用對(duì)環(huán)境有污染和損害生產(chǎn)者健康的化學(xué)物品,,但它的拋光效果卻能夠達(dá)到傳統(tǒng)方法很難達(dá)到的高品質(zhì),,拋光速度也是傳統(tǒng)拋光方法望塵莫及的,生產(chǎn)成本遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)拋光成本(見(jiàn)圖5),。
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方法比較
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特 性 化學(xué)拋光 電解拋光 等離子(電漿)拋光
% Y) U/ D( w- e! f& H
拋光液毒性 大 大 無(wú)
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拋光液老化 難再生 難再生 定期補(bǔ)充
( D" p! ]9 ?4 I. W3 o
廢 液 污 染 厲害 厲害 無(wú)
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廢 液 處 理 難處理 難處理 極易處理
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拋 前 處 理 復(fù)雜 復(fù)雜 簡(jiǎn)單
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拋 后 處理 有害物質(zhì)產(chǎn)生 有害物質(zhì)產(chǎn)生 簡(jiǎn)單沖洗,,無(wú)有害物產(chǎn)生
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整 平 效 果 差 較好 好
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光 亮 效 果 好 好 很好
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方法比較
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特 性 化學(xué)拋光 電解拋光 等離子(電漿)拋光
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對(duì)復(fù)雜零件 可 可 極易
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實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化 可 可 極易
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操 作 較難 較難 容易
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拋 光 速 度 慢 較快 快
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硬 度 影 響 不明顯 不明顯 提高
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圖5
9 S9 I; F ?) `, V8 b8 h J
由于等離子拋光有這些特性存在,所以目前應(yīng)用的非常廣,,并且有取代電解拋光的趨勢(shì),。等離子拋光和電解拋光的適用行業(yè)廣范:手機(jī)電子、數(shù)碼配件,、集成電路制造,、運(yùn)動(dòng)器材(高爾夫球具)、眼鏡制造,、不銹鋼潔具,、餐具、醫(yī)療器械,、手表飾品,、汽車配件、LED制程,、精密模具,、航空航天及五金制品等行業(yè)等離子拋光工藝可以說(shuō)是目前市場(chǎng)上最為先進(jìn)的拋光工藝。他同電解既有相似之處也有本質(zhì)的區(qū)別,。說(shuō)他們相似是說(shuō)他們的拋光后的表面效果差不多,。說(shuō)他的本質(zhì)區(qū)別最主要是等離子拋光成本低和對(duì)環(huán)境無(wú)污染,,而電解則相反。電解最主要是靠藥水來(lái)對(duì)工件進(jìn)行電化學(xué)腐蝕,。所以藥水都具有很強(qiáng)的腐蝕性,。對(duì)人體有很大傷害。對(duì)環(huán)境污染相當(dāng)嚴(yán)重,。而等離子拋光的拋光鹽無(wú)腐蝕性,,對(duì)人體無(wú)傷害,對(duì)環(huán)境也無(wú)污染,。拋光鹽已作過(guò)SGS認(rèn)證,,拋光溶劑污水排放也通過(guò)ROHS檢測(cè)無(wú)污染。
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以一般的手機(jī)外殼為例,,基本上所有的手機(jī)商都對(duì)不銹鋼手機(jī)外殼的要求為表面無(wú)劃傷,,無(wú)明顯紋路,無(wú)白點(diǎn)也就是鏡面效果,。拋光工藝一般從沖壓出完全成型產(chǎn)品開(kāi)始,,后續(xù)工序一般有鐳射,真空鍍膜,,UV,噴油等,。拋光均采用手工拋光,或者是手工拋光和等離子拋光結(jié)合,。手工拋光及手工打磨,,靠產(chǎn)品和麻、線,、布輪的摩擦作用,。第一次看見(jiàn)這種工藝的人都會(huì)很驚訝還有這樣落后和原始的事情�,;蛟S有時(shí)候最原始的是最好的選擇,,這種工藝大行其道。但手工拋光工藝缺點(diǎn)明顯,。第一效率底下,一個(gè)拋光工在8小時(shí)內(nèi)很難出到150個(gè)鏡光成品,,嚴(yán)重制約規(guī)�,;a(chǎn)。第二:工作環(huán)境污染很大.磨光過(guò)程種產(chǎn)生大量的黑色粉末,,一天下來(lái)幾乎全身都黑黑的,。第三:工作種需要消耗大量的體力,工作異常辛苦,。由于以上原因造成拋光工人的管理幾乎成為每個(gè)廠家的頭疼的事情,,自由散漫,,流動(dòng)性太強(qiáng)。等離子拋光由于是靠電離子的摩擦作用,,由于離子幾乎沒(méi)質(zhì)量,。所以摩擦力有限,對(duì)表面的摩擦作用一般是去掉1-2個(gè)絲,。很明顯對(duì)沖壓印跡和表面橘皮無(wú)法去掉,。采用手工拋光和等離子拋光相結(jié)合的辦法。即采用手工開(kāi)初去掉表面壓印和橘皮,。留下很深的麻輪紋路采用很細(xì)的線輪紋路去除,。這個(gè)時(shí)候留下的線輪紋路采用等離子拋光去除。最后效果為表面鏡光無(wú)任何紋路,,表面棱角處產(chǎn)生R角有利于和其他部件的配合,,尤其是按鍵。對(duì)工件的里面一樣拋光光亮,。這塊運(yùn)用種等離子拋光主要作用在去除布輪紋,,少一次清洗程序,成品率高,。由于手工開(kāi)初和收光的時(shí)間成本基本相同,,所以結(jié)合等離子拋光有利于節(jié)約成本,主要效用在節(jié)約時(shí)間,。
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手機(jī)等數(shù)碼產(chǎn)品內(nèi)部件:一般產(chǎn)品為沖出的產(chǎn)品就是成品,,但品牌商如:Nokia,Motorola,Samsung等均要求內(nèi)部件做處理,。效果為去披風(fēng),,去毛刺。不銹鋼做出的產(chǎn)品主要是卡槽,,線路槽,,容器件等。由于是內(nèi)部件一般及布規(guī)則和復(fù)雜,,手機(jī)拋光基本都無(wú)法處理,,采用能離子拋光能很有效的去披風(fēng),去毛刺,。讓部件之間能很好的配合,,極大的減小線路板的摩擦。這一塊是趨勢(shì),,越來(lái)越多的品牌都會(huì)要求做這樣的處理,。內(nèi)部件中比較特別的產(chǎn)品為滑軌,如NOKIA 8800的滑軌設(shè)計(jì)有明顯的凹槽,手工處理不能有效的控制尺寸,,很多地方無(wú)法拋光,。只有等離子拋光才可以解決拋光問(wèn)題。
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等離子拋光的工藝操作簡(jiǎn)單:上掛——電拋——水洗——水洗——中和——水洗——噴淋——超聲波——烤干——下掛——包裝(或進(jìn)行后其它后工藝:如真空鍍膜及鍍膜,,噴涂等)
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三,、等離子拋光在金屬表面處理行業(yè)的應(yīng)用。
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1. 一般需要做真空鍍膜或真空鍍膜的產(chǎn)品,,在開(kāi)始前都會(huì)先做清洗工藝,,部份客戶取用等離子拋光工藝,然后再做真空鍍膜工藝(如圖6),。特別是對(duì)于那些用布輪或者是麻輪做過(guò)拋光處理的產(chǎn)品就顯得尤為重要,。這是因?yàn)楫a(chǎn)品在經(jīng)過(guò)輪子拋光后易留下輪紋,造成表面陰陽(yáng)色或顏色不均勻現(xiàn)象發(fā)生,,這樣經(jīng)過(guò)真空鍍膜后就會(huì)呈現(xiàn)得更為明顯,,呈現(xiàn)出鍍膜顏色不均勻,陰陽(yáng)面等問(wèn)題,,但是采用等離子拋光工藝的要比清洗工藝良率要多30%以上,,給前工序拋光工藝為拋除表面的輪紋減小很大壓力,產(chǎn)能明顯上升,。這個(gè)主要是我們利用等離子拋光能夠很好的提高產(chǎn)品的光澤度和降低產(chǎn)品表面粗糙度及提高表面硬度,。
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2. 拋光鐳射后再做真空鍍膜的產(chǎn)品也需要先做清洗工藝,然后再做真空鍍膜工藝,這是因?yàn)楫a(chǎn)品在鐳射時(shí)表面容易產(chǎn)生發(fā)黃和被一些廢渣吸附,,簡(jiǎn)單的清洗根本去除不干凈,。如果清洗不干凈則會(huì)造成真空鍍膜顏色不均和麻點(diǎn)等不良現(xiàn)象。于是部份客戶取用等離子拋光工藝,,這樣使得產(chǎn)品被清潔的力度大大提高,,使良率明顯提升10~20%。
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3. 拋光拉絲后再做真空鍍膜的產(chǎn)品也需要先做等離子拋光工藝,,然后再做真空鍍膜(如圖8),。這是因?yàn)楫a(chǎn)品在拉絲過(guò)程中很容易使砂礫拉傷表面或者尼龍絲被高溫?zé)刮皆诠ぜz位,簡(jiǎn)單的清洗也是根本沒(méi)辦法去除干凈,。如果清洗不干凈也會(huì)給真空鍍膜造成麻點(diǎn),,砂眼和顏色不均。
U, U6 I( A0 f$ q) ~# d
4. 需要真空鍍膜的產(chǎn)品,前工序最好先做等離子拋光,,因?yàn)榈入x子拋光可以充分去除工件沖裁面的批鋒,,利角和表面臟污。從而使得真空真空鍍膜膜的附著力大大增強(qiáng),,特別是沖裁面的邊角位不易脫膜,能將鍍膜附著力良率提高15%以上。
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5. 等離子拋光工藝還有退掉鍍膜的功效,我們只要通過(guò)特定的拋光劑,在短的時(shí)間(30~180s)內(nèi)就可以完全脫掉鍍膜,。這樣大大節(jié)省脫膜時(shí)間,。對(duì)于那些表面真空鍍氮化碳或氮化鉻的產(chǎn)品,脫膜相對(duì)較難,通過(guò)等離子拋光也能去完全將表面膜層去除干凈,但是拋光時(shí)間需要延長(zhǎng)一倍以上。雖說(shuō)拋光時(shí)間相對(duì)增加,,但任然不會(huì)傷到基材表面,,相反會(huì)大大增加返鍍的良率(因?yàn)榈入x子拋光能很好提高表面的光澤度,降低表面粗糙度,,使表面平滑,,光潔,導(dǎo)電性能好),。
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綜上所述,,等離子拋光的確是真空鍍膜或真空鍍膜前處理不可缺少的工藝,并且他也將以對(duì)人體無(wú)傷害,,對(duì)環(huán)境無(wú)污染,,成本低的絕對(duì)優(yōu)勢(shì)壓倒電解工藝,同時(shí)也為真空鍍膜或真空鍍膜解除更多的不良因素,,為真空鍍膜或真空鍍膜出高品質(zhì)的產(chǎn)品而多做貢獻(xiàn),。
作者:
rogers8011
時(shí)間:
2011-8-4 09:06
最近正要找此類拋光資料呢,謝謝了,,樓主和2樓兄弟
作者:
轉(zhuǎn)身是前方
時(shí)間:
2011-8-8 21:43
下了,,學(xué)習(xí)學(xué)習(xí)。謝謝樓主
作者:
wugqtop
時(shí)間:
2011-8-9 13:03
等離子拋光與電化學(xué)拋光還是有區(qū)別的,!但是電化學(xué)拋光和電化學(xué)去毛刺有區(qū)別嗎,?
作者:
jsbyzbx
時(shí)間:
2011-8-25 10:59
這個(gè)壇子真不錯(cuò),學(xué)習(xí)了
作者:
ProMyHeart
時(shí)間:
2011-8-31 14:43
杭州哪里有做這個(gè)代加工業(yè)務(wù)的,,請(qǐng)與我聯(lián)系13205713746
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