關(guān)于鍍黑Zn和鍍黑cr的問題－請(qǐng)教

zhao_ariel

今有日本客戶來我司,，說日本有個(gè)技術(shù)，鍍的鋅和鉻的顏色為黑色的,，和發(fā)黑的效果差不多！我單位以前沒有做過,，不知道國內(nèi)有沒有這樣的說話,，兩者之間的區(qū)別和優(yōu)缺點(diǎn)各是什么，請(qǐng)指教,！

大刀

鍍鋅后著黑色,；有鍍黑鉻的工藝。

max311

我這里有關(guān)于鍍黑鉻的一點(diǎn)介紹,，希望對(duì)樓主有用,。
2 c; u: n% Z. `) R
7 _- o/ C" n+ {4 Y/ U8 x黑鉻鍍層具有許多優(yōu)點(diǎn)，其化學(xué)穩(wěn)定性好,，可以經(jīng)久保持其表面光澤的外觀,，裝飾性好，耐磨，而且抗污染能力強(qiáng),，因而廣泛用作防護(hù)裝飾性鍍層,。但是與其它常用鍍層相比，黑鉻鍍層是最難獲得的,，其工藝上存在許多難點(diǎn),，主要有：
$ N0 }' k8 V- i2 j. D7 t% z　　① 鍍液均鍍和深鍍能力差,。
　�,、� 陰極電流效率極低，一般在13%～16%,，絕大部分電能都消耗在析出氫氣等副反應(yīng)上,。
# o7 D8 L9 n& C7 V6 s0 T　　③ 獲得合格鍍層使用的電流密度大,，槽電壓高,，能耗大，需要價(jià)格昂貴的電源,。
　�,、� 電解液具有極強(qiáng)的腐蝕性。
* h* [8 _& N+ d$ [9 i$ |+ ~原理
　　鍍鉻液的主要成分是鉻酐,，它的分子式是CrO3,，鉻酐中的鉻是六價(jià)。鉻酐易溶于水,，溶液中的六價(jià)鉻可以多種形式存在,，如四鉻酸(H2Cr4O13)、三鉻酸(H2Cr3O10),、重鉻酸 (H2Cr2O7),、鉻酸(H2CrO4)和鉻酸氫根(HCrO-4)等。
+ }: e/ i/ ~  f% w$ [% X/ E　　一般情況下,，溶液中的Cr6+主要以鉻酸和重鉻酸兩種形式存在,，
2 H: R) o& j0 @) \2 p7 w/ L! H  w6 S2CrO3+H2OH2Cr2O7
CrO3+H2OH2CrO4
% }* K2 A$ k$ p) n4 x, [: x) l　　重鉻酸和鉻酸處于動(dòng)平衡狀態(tài)，
! k5 N% L& V3 ~2H2CrO4=H2Cr2O7+H2O
　　CrO3的濃度降低或pH值降低時(shí),，平衡向生成Cr2O2-7的方向移動(dòng),；
+ i9 F" N9 j; l. l& E! |$ P1 B/ m　　CrO3的濃度增加或pH值上升時(shí)，平衡向生成CrO2-4的方向移動(dòng),。
2 V4 ^  S" e7 @　　鍍黑鉻時(shí)電極的反應(yīng)如下：
陽極反應(yīng)
* C" m$ |9 T4 h# T9 `4OH-4e2H2O+O2↑　　　�,、�
陰極反應(yīng)
2H++2eH2↑　　　　　　　　　　　②
9 Z. n/ y( M; C# F6 XCr2O2-7+8H++6eCr2O3+4H2O　　　�,、�
' B' }3 t; S+ O! |! |　　由于氫氣的析出,，陰極區(qū)內(nèi)的pH值上升,，則發(fā)生如下轉(zhuǎn)化，
Cr2O2-7+H2O = 2CrO2-4+2H+　　　�,、�
( `1 O. B" p' ?+ y- H& u/ A于是
CrO2-4+8H++6eCr+4H2O　　　�,、�
　　因此，黑鉻鍍層主要是由鉻和鉻的氧化物組成,。鍍黑鉻過程中,，陰極上發(fā)生②、③式反應(yīng)時(shí),，由于氫的析出，陰極區(qū)pH值上升,，三價(jià)鉻會(huì)在陰極上生成堿式鉻酸鉻薄膜,，它是帶正電性的分散膠體，會(huì)將陰極表面慢慢地包封住,，這層膜很緊密,，只能讓氫離子透過發(fā)生②式反應(yīng)，也即鍍黑鉻反應(yīng)將會(huì)慢慢終止,。當(dāng)在鍍液中加入陰離子添加劑HCr-I后,，它能與鍍液中的三價(jià)鉻絡(luò)合形成復(fù)雜的陽離子，這種復(fù)雜的陽離子又能破壞陰極表面所形成的堿式鉻酸鉻膜,，使CrO2-4離子能在陰極上放電而析出金屬鉻,，發(fā)生⑤式反應(yīng)，因而添加劑具有使鉻鍍層表面活化的作用,。
, b7 h$ a( @9 _! e/ ?9 V鍍黑鉻工藝組成及其影響因素的分析
5 U2 \1 f1 p9 m9 _& v3.1　鍍液組成及工藝條件
　　通過大量的實(shí)驗(yàn)和小槽的多次試鍍,，我們決定在原槽液中大大增加硼酸含量，并加入陰離子添加劑HCr-I,，鍍液性能得到明顯改善,，陰極電流效率有所提高。
+ U! w- I& G0 F# D# {5 ~　　鍍黑鉻電解液新配方與工藝條件為：
　　鉻酐　　　　　　　280～350 g/L
! A/ ~5 B3 C/ {　　硼酸　　　　　　　10～25 g/L
　　硝酸鈉　　　　　　7～11 g/L
3 n2 z1 T% k9 t+ ?, F( ^　　添加劑　　　　　　HCr-I適量
　　鍍液溫度　　　　　15～35 ℃
+ H. e: W6 C$ s# z" j3.2　鍍液成分與工藝條件的影響
3 D+ F# x, T7 P2 b$ k8 i$ @, J* ]3.2.1　鉻酐：鉻酐是鍍液中的主要成分,。當(dāng)鉻酐含量偏低時(shí),，鍍液的深鍍能力較差；含量偏高時(shí),，雖然深鍍能力改善了,，但鍍層硬度降低，抗磨性能下降,，一般控制在280～350 g/L之間,。
# \0 H& `& ]* `" o) U, R* J3.2.2　硼酸：硼酸的加入，能使鍍層細(xì)致,，提高鍍液的覆蓋能力,。含量太低,，鍍層粗糙疏松；含量太高,，會(huì)使鍍層出現(xiàn)脆性,、脫殼現(xiàn)象。
# E5 ]% k8 s8 G- L. s5 S( Y3.2.3　硝酸鈉：鍍液中的硝酸鈉是發(fā)黑劑,，它的含量偏低時(shí),，鍍層不黑，電解液的電導(dǎo)率低,，槽電壓高,；含量偏高時(shí)，鍍液的分散能力和覆蓋能力較差,。通�,？刂圃�7～11 g/L之間。
3.2.4　添加劑：鍍液中使用陰離子添加劑HCr-I可以提高鍍液的分散能力和鍍層的黑度,，并具有使黑鉻鍍層表面活化的作用,。
3.2.5　鍍液溫度：鍍黑鉻時(shí)，由于陰極電流效率很低,，工作時(shí)的電流密度較高,，槽液的溫度極易上升。當(dāng)溫度超過35 ℃時(shí),，鍍層就不黑了,，因此在生產(chǎn)中要嚴(yán)格控制槽液的溫度。
6 k. K' B2 `) q0 K3.3　雜質(zhì)離子的影響及除去方法
3.3.1　氯離子：鍍液中氯離子含量過高時(shí),，會(huì)使鍍層發(fā)花,，覆蓋能力降低，甚至?xí)�使鍍層粗糙和發(fā)灰,。因此生產(chǎn)中必須防止將氯離子帶入鍍黑鉻槽液中,。自來水中氯離子含量較高，因此不可用自來水配制鍍黑鉻槽液,，應(yīng)用蒸餾水或去離子水配制,，而且鍍黑鉻前的清洗也必須用純水。
　　氯離子可用適量的硝酸銀來除去,。
# E& `$ Y4 V/ C: `3 A5 T) s. R3.3.2　硫酸根： 硫酸根是特別有害的雜質(zhì),。當(dāng)鍍液中含有硫酸根時(shí)，鍍層呈淺黃色,。
　　硫酸根可用適量的碳酸鋇來除去,。
3.3.3　銅離子：當(dāng)鍍液中含有銅離子達(dá)1g/L以上時(shí)，鍍層會(huì)出現(xiàn)褐色條紋,，因此陽極的銅掛鉤不可侵入鍍液內(nèi),。若有落入鍍槽內(nèi)的銅零件,，應(yīng)及時(shí)取出。

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學(xué)習(xí)一下
( R' q3 o3 O" i2 M% t+ p7 u4 K沒接觸過哈

劉偉reed

學(xué)習(xí)到了,論壇真是高手云集啊.

品茶論劍

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