中國科學院沈陽科學儀器研制中心有限公司PECVD事業(yè)部,由美國硅谷多年從事半導(dǎo)體沉積設(shè)備制造的高技術(shù)人才團隊歸國組建,,團隊致力于技術(shù)研發(fā)和生產(chǎn)經(jīng)營,,以客戶需求為導(dǎo)向,,為客戶提供最為完善、優(yōu)質(zhì)的服務(wù),。
CC1等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)獲美國 NOVELLUS(諾發(fā))Concept One(C1)授權(quán),,全部引進其生產(chǎn)技術(shù)及工藝,具有成熟的二氧化硅,、氮化硅,、氮氧硅等鍍膜工藝,可廣泛應(yīng)用于4寸,、5寸,、6寸半導(dǎo)體晶圓代工生產(chǎn)線及半導(dǎo)體集成電路與分立器件生產(chǎn)線。
更新設(shè)計的自動化控制系統(tǒng),,采用了 Device Net 現(xiàn)場總線通訊技術(shù),;控制程序基于 Windows 2000平臺設(shè)計,,程序界面更友好,工藝操作更便捷,,提高了控制系統(tǒng)效率,。此外設(shè)備還提供基于SEMI通訊協(xié)議的工業(yè)以太網(wǎng)接口,使得遠程監(jiān)控和生產(chǎn)線設(shè)備調(diào)度管理更方便,。 |