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目前常用的拋光方法
% N# S: L' A2 X目前常用的拋光方法有以下幾種:
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1.1 機(jī)械拋光+ ]2 a( G. L2 d0 e8 j4 E- Z- P
機(jī)械拋光是靠切削,、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪,、砂紙等,以手工操作為主,,特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面,,可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具,表面質(zhì)量
; J4 W2 Y+ c3 u3 G% M要求高的可采用超精研拋的方法,。超精研拋是采用特制的磨具,,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,,作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng),。利用該技術(shù)可以達(dá)到 Ra0.008 μ m 的表面粗糙度,是各種拋光方法中最高的,。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法,。
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1.2 化學(xué)拋光
( w6 V! i$ \' M/ B' g化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面,。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備,,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高,�,;瘜W(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液的配制�,;瘜W(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數(shù) 10 μ m ,。! [# _' ]( X: L6 J; |5 u; `4 X4 f
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1.3 電解拋光
6 ]- w7 q a; D6 q2 ]電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,,使表面光滑,。與化學(xué)拋光相比,可以消除陰極反應(yīng)的影響,,效果較好,。電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步:! \1 l: a& \0 S7 P$ l5 D5 ?
( 1 )宏觀整平. Z4 g/ o, U" l4 \0 S6 ~
溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降,, Ra > 1 μ m ,。
, a, v- ]9 N ~7 d' Z( 2 )微光平整' p( W2 y: y* D! y. X
陽(yáng)極極化,表面光亮度提高,, Ra < 1 μ m ,。
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5 X+ G/ W% L9 J$ u6 Q5 Q1.4 超聲波拋光
* g G6 u+ e. D0 z. U將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中,依靠超聲波的振蕩作用,,使磨料在工件表面磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,,不會(huì)引起工件變形,,但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合,。在溶液腐蝕,、電解的基礎(chǔ)上,再施加超聲波振動(dòng)攪拌溶液,,使工件表面溶解產(chǎn)物脫離,,表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過(guò)程,,利于表面光亮化,。
8 M* K- Y9 T0 _" i/ B5 F4 ~+ m" i- V1 }2 x/ f' J
1.5 流體拋光: f6 x1 n7 k; b: }& X) l5 i9 A s
流體拋光是依靠高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工,、液體噴射加工,、流體動(dòng)力研磨等。流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng),,使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過(guò)工件表面,。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過(guò)性好的特殊化合物(聚合物狀物質(zhì))并摻上磨料制成,,磨料可采用碳化硅粉末。, I/ I8 z5 _, p7 m
0 E9 V! D& B8 s. ]2 I1 N1.6 磁研磨拋光
) r2 Q: o7 V, a i0 o) f7 U3 N磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下形成磨料刷,,對(duì)工件磨削加工,。這種方法加工效率高,質(zhì)量好,,加工條件容易控制,,工作條件好。采用合適的磨料,,表面粗糙度可以達(dá)到 Ra0.1 μ m ,。' c5 ]8 u, V' ^7 }0 g' n# D& t
在塑料模具加工中所說(shuō)的拋光與其他行業(yè)中所要求的表面拋光有很大的不同,嚴(yán)格來(lái)說(shuō),,模具的拋光應(yīng)該稱(chēng)為鏡面加工,。它不僅對(duì)拋光本身有很高的要求并且對(duì)表面平整度、光滑度以及幾何精確度也有很高的標(biāo)準(zhǔn),。表面拋光一般只要求獲得光亮的表面即可,。鏡面加工的標(biāo)準(zhǔn)分為四級(jí): AO=Ra0.008 μ m , A1=Ra0.016 μ m ,, A3=Ra0.032 μ m ,, A4=Ra0.063 μ m ,由于電解拋光,、流體拋光等方法很難精確控制零件的幾何精確度,,而化學(xué)拋光、超聲波拋光,、磁研磨拋光等方法的表面質(zhì)量又達(dá)不到要求,,所以精密模具的鏡面加工還是以機(jī)械拋光為主。 |
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