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一直在追趕,,中國(guó)芯片和光刻機(jī)發(fā)展史

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發(fā)表于 2020-9-4 12:49:20 | 只看該作者 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
1. 80年代“芯片項(xiàng)目下馬”或“光刻機(jī)下馬”,這是絕對(duì)的胡扯,,誰(shuí)信就是上當(dāng)了,。改開(kāi)后各時(shí)期中國(guó)光刻機(jī)都在研發(fā),技術(shù)被拉開(kāi)差距,,主要原因基礎(chǔ)科研能力不足,,摩爾定律跟不上。
2. 1974-1978年甘肅平?jīng)龅碾娮庸I(yè)部45所開(kāi)發(fā)了“半自動(dòng)光刻機(jī)”GK-3型(圖),,制程是5微米,。自動(dòng)送片,,預(yù)對(duì)準(zhǔn)精度0.3毫米,,自動(dòng)曝光收片,,光源與工作臺(tái)組成一個(gè)機(jī)器。半自動(dòng)是說(shuō),,需要人看顯微鏡來(lái)微調(diào)對(duì)準(zhǔn),。對(duì)準(zhǔn),是光刻機(jī)最大的問(wèn)題之一,,光刻機(jī)的英文名就是Mask Aligner,。
3. 80年代不少單位都來(lái)搞光刻機(jī)了。45所仍然是主力,,開(kāi)發(fā)出了分布曝光的BG101(1979-1984年研發(fā),,2微米),后面BG101J(1991-1994,,1.5微米),、BG102(1990-1995,0.8微米),、BG105(1996-2000,,0.5微米),都按節(jié)奏研發(fā)出來(lái)了,。
4. 80年代還有,,中科院半導(dǎo)體所1978-1981年研制的JK-1型接近式光刻機(jī),2.5微米,;1982年科學(xué)院109廠與哈爾濱刃具廠阿城繼電器廠聯(lián)合研制的KHA75-1型接近式光刻機(jī),;上海光機(jī)所1985年的3微米掃描式投影光刻機(jī)。這些全都是半自動(dòng)的,,都需要人看顯微鏡微調(diào),,所以基本是2-5微米的水平。
5. 中科院光電所1990年驗(yàn)收的IOE1010G光刻機(jī),,結(jié)合上海光機(jī)所掃描與45所分步兩種技術(shù)的優(yōu)點(diǎn),,1.5-2微米。它還是中國(guó)第一個(gè)全自動(dòng)光刻機(jī),,用電視圖像算法自動(dòng)對(duì)準(zhǔn),。后面BG101J也做了,90年代中國(guó)的光刻機(jī)才算是全自動(dòng)了,。
6. 2000年以后,,45所搞光刻機(jī)的人轉(zhuǎn)到上海微電子裝備SMEE去搞,02專(zhuān)項(xiàng),。45所繼續(xù)搞集成電路制造其余裝備的開(kāi)發(fā),。SMEE的光刻機(jī)目前最新的是90nm(0.09微米),,據(jù)說(shuō)2021年出28nm的,但沒(méi)有官方消息,。
7. 改開(kāi)后,,有不少單位在搞光刻機(jī),絕對(duì)沒(méi)有中斷研發(fā)的事,,應(yīng)該說(shuō)投入比改開(kāi)前大多了,。這也不是多難的決策,看清楚芯片業(yè)與芯片制造裝備的意義并不難,。
8. 但可以看出,,中國(guó)光刻機(jī)技術(shù)進(jìn)步不是太大。相比外國(guó),,中國(guó)光刻機(jī)陷入了在低水平小幅改進(jìn)的困境,,拿個(gè)電視圖像開(kāi)發(fā)個(gè)圖像對(duì)準(zhǔn)算法就是升級(jí)。從技術(shù)上來(lái)說(shuō),,這主要是基礎(chǔ)科研能力的跟不上,,先進(jìn)光源搞不定、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)精度上不去,、各種子系統(tǒng)能力嚴(yán)重不足,。種種原因,在2000年以后,,就沒(méi)有跟上業(yè)界主流的193nm的DUV光源+浸潤(rùn)式光刻等先進(jìn)技術(shù)不斷提高制程的過(guò)程,,更不要說(shuō)EUV光源13.5nm的國(guó)際最頂尖技術(shù)了。
9. 也就是說(shuō),,國(guó)外芯片制造在按摩爾定律發(fā)展,,而中國(guó)在早期還能跟上,差距5-7年之類(lèi)的,。隨著倍數(shù)越翻越高,,對(duì)基礎(chǔ)科研的能力要求越來(lái)越高,中國(guó)就跟不上了,。這不是改開(kāi)后放棄了,,而是技術(shù)規(guī)律。絕大多數(shù)技術(shù),,外國(guó)是線性或者停滯發(fā)展,,改開(kāi)以后中國(guó)技術(shù)追超成效非常好。
10. 現(xiàn)在中國(guó)基礎(chǔ)科研相對(duì)能力比改開(kāi)初期要強(qiáng)不少了,,所以連光刻機(jī)芯片制造都可以追回來(lái),,就是要的時(shí)間會(huì)比其它任務(wù)長(zhǎng)。

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發(fā)表于 2020-9-4 15:14:22 | 只看該作者
我原來(lái)就是45所的,部門(mén)的一個(gè)師傅就是2000年去了上海微高搞光刻機(jī),,設(shè)備沒(méi)搞出來(lái),,湊錢(qián)在上海買(mǎi)了套房子,發(fā)達(dá)了

點(diǎn)評(píng)

我不是那個(gè)部門(mén)的,,完全不懂  發(fā)表于 2020-9-4 17:09
說(shuō)說(shuō)光刻機(jī)的開(kāi)發(fā)流程,,遇到哪些問(wèn)題了,,原始資料是誰(shuí)的  發(fā)表于 2020-9-4 16:40

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