關于鍍鉻的幾個疑問

SY1100479

新人求教關于鍍鉻的幾個問題： 1.鍍硬鉻跟鍍黑鉻表面硬度上有什么區(qū)別嗎,？鍍鉻后一般硬度可達到多少？
2.鍍層厚度一般在什么樣的水平，20um-50um嗎？
7 m6 l* J% M) w5 p 3.除了鍍鉻，有沒有其他表面處理技術可以使材料表面拋光后亮度提升,？目前材料S136磨過后粗糙度在200nm,，3M砂紙拋光一小時后鏡面效果不佳。

wtangzz147

想要鏡面效果，直接亮光鍍鉻,？

SY1100479

wtangzz147 發(fā)表于 2020-12-9 16:57
想要鏡面效果,，直接亮光鍍鉻？

6 L  M4 N0 s7 L( M- m直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了,，我們目前管控在5um以內,，端面磨完之后是在2um左右，但是磨完粗糙度還是有點大,，目前是計劃先磨再鍍鉻再拋光（拋光同時把平面度處理好）
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18706204575

涉及高精度加工,，不懂

大陸架

利用光學鏡頭行業(yè)的拋光液拋光試試。

大陸架

拋光液的主要產品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液,、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）,、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鈰拋光液,、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類,。 [2]
5 g) q" o! }" n, h! p1 ~( ]多晶金剛石拋光液
多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方,，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質產生劃傷,。
主要應用于藍寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄,、光學晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光,。
氧化硅拋光液
3 \. X9 V2 c& M! A7 Z氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品,。
廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,，如：硅晶圓片、鍺片,、化合物半導體材料砷化鎵,、磷化銦，精密光學器件,、藍寶石片等的拋光加工。
' U1 O" N5 l3 @0 X氧化鈰拋光液
氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液,，該研磨液具有分散性好,、粒度細,、粒度分布均勻、硬度適中等特點,。
適用于高精密光學儀器,，光學鏡頭，微晶玻璃基板,，晶體表面,、集成電路光掩模等方面的精密拋光。
0 K+ g5 Z5 o3 R2 V氧化鋁和碳化硅拋光液
是以超細氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液,，主要成分是微米或亞微米級的磨料,。
: Z, r5 B" c  h+ Q+ |! t# W# E主要用于高精密光學儀器、硬盤基板,、磁頭,、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和拋光,。

SY1100479

大陸架 發(fā)表于 2020-12-10 08:31
拋光液的主要產品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液,、單晶金剛石拋光液 ...

老哥，氧化鈰適合拋光玻璃,，我們有在用的粒度是0.5um的,，金屬拋光不太適合；
另外,，我詢問的是鍍鉻的知識

parkorliu

SY1100479 發(fā)表于 2020-12-9 17:56
- P! J& j3 W. t4 D5 R( F& W* Q直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了,，我們目前管控在5um以內，端面磨完之后是在2um左右,，但是磨完粗糙 ...

7 f$ G, }, Z, G* C, E可以鍍后加工的,，我們水工行業(yè)的活塞桿就是這么干的。表面粗糙度＜Ra0.2,，再高就沒試過了,。
( j: e! b! c8 e! L$ l

wtangzz147

SY1100479 發(fā)表于 2020-12-9 17:56
直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了，我們目前管控在5um以內,，端面磨完之后是在2um左右,，但是磨完粗糙 ...

先磨再鍍感覺靠譜

遠祥

鍍黑鉻有時是起到裝飾作用，就像油標卡尺的刻度線,，它就是黑鉻,，這種粘付力不大，容易被擦掉,，所以硬鉻鍍層粘付力才大,。