關(guān)于鍍鉻的幾個疑問

SY1100479

新人求教關(guān)于鍍鉻的幾個問題： 1.鍍硬鉻跟鍍黑鉻表面硬度上有什么區(qū)別嗎,？鍍鉻后一般硬度可達到多少,？
2.鍍層厚度一般在什么樣的水平,，20um-50um嗎,？
3.除了鍍鉻，有沒有其他表面處理技術(shù)可以使材料表面拋光后亮度提升,？目前材料S136磨過后粗糙度在200nm,，3M砂紙拋光一小時后鏡面效果不佳。
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wtangzz147

想要鏡面效果，直接亮光鍍鉻,？

SY1100479

wtangzz147 發(fā)表于 2020-12-9 16:57
想要鏡面效果,，直接亮光鍍鉻？

直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了,，我們目前管控在5um以內(nèi),，端面磨完之后是在2um左右，但是磨完粗糙度還是有點大,，目前是計劃先磨再鍍鉻再拋光（拋光同時把平面度處理好）

18706204575

涉及高精度加工,，不懂

大陸架

利用光學(xué)鏡頭行業(yè)的拋光液拋光試試。

大陸架

拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液,、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）,、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鈰拋光液,、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類,。 [2]
7 y( R2 g8 O5 J: E9 d7 a! v, h' s1 ?多晶金剛石拋光液
+ [7 G0 x3 z/ c0 E& ?& u' C多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方,，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質(zhì)產(chǎn)生劃傷,。
主要應(yīng)用于藍寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄,、光學(xué)晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光,。
3 C8 C0 j( F% i" x+ ?8 p氧化硅拋光液
  B* G8 O) \8 Y$ X6 R. V5 f6 f氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品,。
廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,，如：硅晶圓片、鍺片,、化合物半導(dǎo)體材料砷化鎵,、磷化銦，精密光學(xué)器件,、藍寶石片等的拋光加工,。
氧化鈰拋光液
# n5 d) d2 B1 c$ [' W+ O氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好,、粒度細,、粒度分布均勻、硬度適中等特點,。
7 ?4 K1 a) ]1 r1 X$ p適用于高精密光學(xué)儀器,，光學(xué)鏡頭,，微晶玻璃基板，晶體表面,、集成電路光掩模等方面的精密拋光,。
  H, a$ W, M3 h" \6 C氧化鋁和碳化硅拋光液
是以超細氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液，主要成分是微米或亞微米級的磨料,。
主要用于高精密光學(xué)儀器,、硬盤基板、磁頭,、陶瓷,、光纖連接器等方面的研磨和拋光。

SY1100479

大陸架 發(fā)表于 2020-12-10 08:31
拋光液的主要產(chǎn)品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液,、單晶金剛石拋光液 ...

老哥,，氧化鈰適合拋光玻璃，我們有在用的粒度是0.5um的,，金屬拋光不太適合,；
: U  Q$ ~9 j( |, {1 M0 P* V; }4 o另外，我詢問的是鍍鉻的知識

parkorliu

SY1100479 發(fā)表于 2020-12-9 17:56
, u" W) u3 C/ ~3 N+ E" o$ q% S; P% h直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了,，我們目前管控在5um以內(nèi),，端面磨完之后是在2um左右，但是磨完粗糙 ...

; \9 o  L. O5 B可以鍍后加工的,，我們水工行業(yè)的活塞桿就是這么干的,。表面粗糙度＜Ra0.2，再高就沒試過了,。

wtangzz147

SY1100479 發(fā)表于 2020-12-9 17:56
直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了,，我們目前管控在5um以內(nèi)，端面磨完之后是在2um左右,，但是磨完粗糙 ...

先磨再鍍感覺靠譜
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遠祥

鍍黑鉻有時是起到裝飾作用,，就像油標卡尺的刻度線，它就是黑鉻,，這種粘付力不大,，容易被擦掉，所以硬鉻鍍層粘付力才大,。