技術(shù)方面的不斷發(fā)展帶來了更多可能,,但更加影響大家的是另外方面的問題,,中國由于實力上的進展,,創(chuàng)造了更多的優(yōu)勢。
但同時也有一個問題,,那就是發(fā)展當中的一些限制,,由于整體能量以及起步時間方面的原因,所以在一些技術(shù)呈現(xiàn)上中國的缺陷是比較大,,按照這種模式發(fā)展對于中國本身的影響也會增大,,在運用呈現(xiàn)上的表達,也有更多的東西,,但中國在芯片世界上最大的一個短板則來源于光刻機,。
由于芯片是半導體發(fā)展領(lǐng)域,所以想要完成更多這方面的運用,,必須有一定的發(fā)展意圖,,在目前市面上流傳的芯片制造來說,大多數(shù)都是以光刻機來作為支撐,,但中國在這方面還沒有完成技術(shù)突破,。
目前來說擁有著廣客機制造研制領(lǐng)域最強的一個國家是荷蘭,他們的ASML公司也在整體的發(fā)展當中創(chuàng)造了更多的可能,,但是想要為后續(xù)帶來一定的支持,,某些領(lǐng)域也是不可忽視,美國也想過從芯片事業(yè)方面對中國進行限制取得的成效還比較不錯,。
在這種情形之下,,我們也在努力地應對和做改變,在美國對中國圍追堵截的那一段時間當中,,我們做了很多的調(diào)整,。
其他國家的大洋一直存在,但是國產(chǎn)光刻機在發(fā)展過程當中也一直在調(diào)整,,目前在我國的光刻機市場也迎來了一個最新的動向,,我國的哈工大儀器學院的胡鵬程教授帶領(lǐng)團隊研制出了高超速精密激光干涉儀,這項技術(shù)還獲得了首屆金穗獎,,并且在中國光電儀器品牌當中獲得金獎,。
雖然頭銜比較多,,但是大家都在好奇他究竟是做什么用的?
根據(jù)目前的技術(shù)看來,,這一項激光干涉儀可以用于350納米到28納米工藝的光刻機集成研究和性能測試,,這也就意味著中國能夠在集成電路上實現(xiàn)彎道超車,通過這一技術(shù)的發(fā)展,,想要為之后的7納米,,5納米做更多鋪墊就變得相對比較簡單了。
并且依靠著這一技術(shù)也可以縮短與西方企業(yè)之間的差距,,本身在光刻機研制上想要完全的超越就不太可能,,但現(xiàn)在由于這一技術(shù)的誕生,讓中國的追趕變得有了底氣,,也有了更多的可能,。
技術(shù)領(lǐng)域的發(fā)展從來就沒有容易二字,想要有更多優(yōu)勢上的進展,,也必須持續(xù)性地推進,,但其實關(guān)于這一技術(shù),人們還是有比較多的疑問,,畢竟說中國的技術(shù)能夠完全地突破,,七納米芯片的制造還是引發(fā)了很多人的關(guān)注,但是專家也有過提醒,,讓我們在這方面認清現(xiàn)實,。
首先技術(shù)上的呈現(xiàn)無可厚非,而中國也確實有這項技術(shù)的突破,,但是數(shù)據(jù)卻沒有大家想象得這么可觀,,因為根據(jù)目前的數(shù)據(jù)看來,他僅僅只是350納米到28納米之間,,想要完成更高的芯片技術(shù)制造更需要有所推進,,況且,中國在這一技術(shù)上僅僅只是才擁有,,所以說也需要有更多的支持,。
實際上的發(fā)展雖然讓我們有了一定的底氣,但是絕對不可能因為這樣的原因就沾沾自喜,,畢竟在技術(shù)制造領(lǐng)域還有眾多方面的展現(xiàn),,如果說單純憑借這方面,,就為此高興的話,,也很有可能會在后續(xù)發(fā)展當中付出更多的代價。
光刻機研制需要的是更多技術(shù)上的共同配備,,中國在這方面僅僅只是才起步,,因此在后續(xù)發(fā)展過程當中,,也應當有更多的關(guān)注,雖然不是想潑中國的冷水,,但畢竟在一些技術(shù)發(fā)展上,,我們起步的時間是比較晚。
光刻機制造方面,,雖然有優(yōu)勢上的展現(xiàn),,但是想要完全的代替以及跟上其他國家需要的是更多的調(diào)整和提升能量發(fā)展,從來都不可能一概而論,,中國能夠取得芯片事業(yè)的進步,,也有著多方面的呈現(xiàn),但也不可以因此而沾沾這些,。
當然除開在光刻機的研制上,,我們還有其他方面的共同進展,那就是關(guān)于光子芯片的驗證,,這種芯片不需要用光刻機來進行共同制造,,也可以有相應的技術(shù)能量提升。
但是畢竟光子芯片是一條全新的路線,,是否能夠維持,,以及在這條道路上的發(fā)展優(yōu)勢,如何可能需要更長的時間來進行考驗,。在中國進行光子芯片量產(chǎn)之后,,也可能會有一定的判定,就請大家拭目以待吧
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