近日,,我國“極紫外光刻關(guān)鍵技術(shù)研究”項(xiàng)目驗(yàn)收會(huì)在長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所召開,現(xiàn)場(chǎng)在眾多評(píng)審專家的見證下,驗(yàn)收通過了該項(xiàng)目取得的一系列成果,大大推進(jìn)了我國極紫外光刻技術(shù)的研發(fā),。 什么是極紫外光刻? 簡(jiǎn)單說,,極紫外光刻就是一種采用波長(zhǎng)13.5nm極紫外光為工作波長(zhǎng)的投影光刻技術(shù),,它代表了當(dāng)前應(yīng)用光學(xué)發(fā)展最高水平。而作為下一代光刻技術(shù),,被行業(yè)賦予了拯救摩爾定律的使命,。 我國中科院長(zhǎng)春光機(jī)所自上世紀(jì)90年代就在此領(lǐng)域展開了相關(guān)研究,但受限于國外設(shè)備技術(shù)封鎖,,以及自身技術(shù)薄弱等原因,,進(jìn)展一直遠(yuǎn)遠(yuǎn)落后國外發(fā)展速度。2008年為了追趕國外技術(shù)水平,,我國將32-22nmEUV光刻技術(shù)列為重要攻關(guān)任務(wù),經(jīng)過近8年的艱苦奮戰(zhàn),、潛心鉆研,,我國才最終取得成功,順利打破了國外在該領(lǐng)域的技術(shù)封鎖 光刻技術(shù)作為現(xiàn)代集成電路設(shè)計(jì)必不可少的裝置,,以及最大的瓶頸,,直接關(guān)系著CPU等電子芯片的發(fā)展和進(jìn)步。正是因?yàn)槲覈贓UV光刻技術(shù)方面的滯后性,我國不得不從外國進(jìn)口價(jià)格高昂的成品,。 據(jù)統(tǒng)計(jì),,我國連續(xù)多年從西方進(jìn)口芯片已經(jīng)超過1萬億人民幣,且這個(gè)趨勢(shì)還在不斷上漲,,比如去年一整年就超過了1萬五千億,,可以說集成電路已經(jīng)成為我國國庫公帑流失以及國防經(jīng)濟(jì)安全的巨大破洞。 所以,,此次長(zhǎng)春光機(jī)所在EUV光刻技術(shù)方面取得重大突破,,其意義已經(jīng)不亞于電磁彈射,甚至堪比峨眉發(fā)動(dòng)機(jī),。 0 k9 I! L8 ?7 y0 N
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