填充陣列做高爾夫球，陣列不均勻

漠漠mo · 發(fā)表于 2017-9-30 09:12:13

在球體上挖了一個(gè)小凹槽,，做填充陣列后發(fā)現(xiàn)越往中間凹槽越深,，求解這是什么原因造成的？需要修改哪些參數(shù)才能使得填充陣列在球體上的凹槽深度均勻,？

xueqingchao · 發(fā)表于 2017-9-30 10:27:11

沒(méi)有定義好,，在截面里定義截面線法向與球面,。

漠漠mo · 發(fā)表于 2017-9-30 10:30:57

xueqingchao 發(fā)表于 2017-9-30 10:27$ G6 X; O6 z* h3 Y( V2 |
沒(méi)有定義好，在截面里定義截面線法向與球面,。

除去與陣列凹槽相對(duì)的面,，畫(huà)好的圓在更換草繪界面時(shí)，在余下的兩個(gè)平面顯示的都是不在球體的中心圓點(diǎn),，這要怎么處理,？

漠漠mo · 發(fā)表于 2017-9-30 11:14:17

漠漠mo 發(fā)表于 2017-9-30 10:30
3 a0 D# z% z; y; c* z* Q除去與陣列凹槽相對(duì)的面，畫(huà)好的圓在更換草繪界面時(shí),，在余下的兩個(gè)平面顯示的都是不在球體的中心圓點(diǎn),，這 ...

不好意思啊，可能是我太笨了,，試不出來(lái)

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