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現(xiàn)代精密測(cè)量技術(shù)現(xiàn)狀及發(fā)展

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發(fā)表于 2008-3-20 17:37:16 | 只看該作者 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
現(xiàn)代精密測(cè)量技術(shù)是一門集光學(xué)、電子,、傳感器,、圖像,、制造及計(jì)算機(jī)技術(shù)為一體的綜合性交叉學(xué)科,,涉及廣泛的學(xué)科領(lǐng)域,,它的發(fā)展需要眾多相關(guān)學(xué)科的支持,。在現(xiàn)代工業(yè)制造技術(shù)和科學(xué)研究中,,測(cè)量?jī)x器具有精密化、集成化,、智能化的發(fā)展趨勢(shì),。三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)(CMM)是適應(yīng)上述發(fā)展趨勢(shì)的典型代表,它幾乎可以對(duì)生產(chǎn)中的所有三維復(fù)...
( K3 `0 w7 t' D5 m, a2 z現(xiàn)代精密測(cè)量技術(shù)一門集光學(xué),、電子,、傳感器、圖像,、制造及計(jì)算機(jī)技術(shù)為一體的綜合性交叉學(xué)科,,涉及廣泛的學(xué)科領(lǐng)域,它的發(fā)展需要眾多相關(guān)學(xué)科的支持,。在現(xiàn)代工業(yè)制造技術(shù)和科學(xué)研究中,,測(cè)量?jī)x器具有精密化、集成化,、智能化的發(fā)展趨勢(shì),。三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)(CMM)是適應(yīng)上述發(fā)展趨勢(shì)的典型代表,它幾乎可以對(duì)生產(chǎn)中的所有三維復(fù)雜零件尺寸,、形狀和相互位置進(jìn)行高準(zhǔn)確度測(cè)量,。發(fā)展高速坐標(biāo)測(cè)量機(jī)是現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)的要求。同時(shí),,作為下世紀(jì)的重點(diǎn)發(fā)展目標(biāo),,各在微/納米測(cè)量技術(shù)領(lǐng)域開(kāi)展了廣泛的應(yīng)用研究,。 + V6 v* W" I) r% p3 u1 D% r

/ v+ X. P; l0 E3 u" G- w$ e1 坐標(biāo)測(cè)量機(jī)的最新發(fā)展
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! h1 y- }6 N% |& M0 n三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)作為幾何尺寸數(shù)字化檢測(cè)設(shè)備在機(jī)械制造領(lǐng)域得到推廣使用,而科學(xué)研究和機(jī)械制造行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步又對(duì)CMM提出更多新的要求,,作為測(cè)量機(jī)的制造者就需要不斷將新技術(shù)應(yīng)用于自己的產(chǎn)品以滿足生產(chǎn)實(shí)際的需要,。 8 e: s/ k" x5 E( T9 S: T
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1.1 誤差自補(bǔ)償技術(shù)
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+ p& `* e6 u: ]( r+ m1 k德國(guó)Carl Zeiss公司最近開(kāi)發(fā)的CNC小型坐標(biāo)測(cè)量機(jī)采用熱不靈敏陶瓷技術(shù)(Thermally insensitive ceramic technology),使坐標(biāo)測(cè)量機(jī)的測(cè)量精度在17.8~25.6℃范圍不受溫度變化的影響,。國(guó)內(nèi)自行開(kāi)發(fā)的數(shù)控測(cè)量機(jī)軟件系統(tǒng)PMIS包括多項(xiàng)系統(tǒng)誤差補(bǔ)償,、系統(tǒng)數(shù)識(shí)別和優(yōu)化技術(shù)。 - ^+ P2 k! k7 o: K* @$ G9 D
! \8 `% d# ?, X4 ~
1.2 豐富的軟件技術(shù)
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Carl Zeiss公司開(kāi)發(fā)的坐標(biāo)測(cè)量機(jī)軟件STRATA-UX,,其測(cè)量數(shù)據(jù)可以從CMM直接傳送到隨機(jī)配備的統(tǒng)計(jì)軟件中去,,對(duì)測(cè)量系統(tǒng)給出的檢驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行實(shí)時(shí)分析與管理,根據(jù)要求對(duì)其進(jìn)行評(píng)估,。依據(jù)此數(shù)據(jù)庫(kù),,可自動(dòng)生成各種統(tǒng)計(jì)報(bào)表,包括X-BAR&R及X_BAR&S圖表,、頻率直方圖,、運(yùn)行圖、目標(biāo)圖等,。美國(guó)Brown & Sharp公司的Chameleon CMM測(cè)量系統(tǒng)所配支持軟件可提供包括齒輪,、板材、凸輪及凸輪軸共計(jì)50多個(gè)測(cè)量模塊,。日本Mitutoyo公司研制開(kāi)發(fā)了一種圖形顯示及繪圖程序,,用于輔助操作者進(jìn)行實(shí)際值與要求測(cè)量值之間的比較,具有多種輸出方式,。 2 o: [+ j; i+ c
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1.3 系統(tǒng)集成應(yīng)用技術(shù) ) h) L- F2 M1 j8 F0 f# V8 m7 K! R
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各坐標(biāo)測(cè)量機(jī)制造商獨(dú)立開(kāi)發(fā)的不同軟件系統(tǒng)往往互不相容,,也因知識(shí)產(chǎn)權(quán)的問(wèn)題,些工程軟件是封閉的,。系統(tǒng)集成技術(shù)主要解決不同軟件包之間的通信協(xié)議和軟件翻譯接口問(wèn)題,。利用系統(tǒng)集成技術(shù)可以把CAD、CAM及CAT以在線工作方式集成在一起,,形成數(shù)學(xué)實(shí)物仿形制造系統(tǒng),大大縮短了模具制造及產(chǎn)品仿制生產(chǎn)周期,。 2 y: R7 W0 q0 I) j8 E

: t9 U( s9 K% O/ ?7 x, V1.4 非接觸測(cè)量
8 Q1 p3 ~+ h" G3 p" N. I1 N1 H* C' h0 o& b7 S) V4 w8 _
基于三角測(cè)量原理的非接觸激光光學(xué)探頭應(yīng)用于CMM上代替接觸式探頭,。通過(guò)探頭的掃描可以準(zhǔn)確獲得表面粗糙度信息,進(jìn)行表面輪廓的三維立體測(cè)量及用于模具特征線的識(shí)別,。該方法克服了接觸測(cè)量的局限性,。將激光雙三角測(cè)量法應(yīng)用于1700mm×1200mm×200mm測(cè)量范圍內(nèi),對(duì)復(fù)雜曲面輪廓進(jìn)行測(cè)量,,其精度可高于1μm,。英國(guó)IMS公司生產(chǎn)的IMP型坐標(biāo)測(cè)量機(jī)可以配用其他廠商提供的接觸式或非接觸式探頭,。
( k& P4 d9 J4 |* `0 |2 w! C. A6 y3 h$ q* R
2 微/納米級(jí)精密測(cè)量技術(shù) # G; ~5 t2 [# V3 c4 N' B. X

# f' p1 ~& c' T科學(xué)技術(shù)向微小領(lǐng)域發(fā)展,由毫米級(jí),、微米級(jí)繼而涉足到納米級(jí),,即微/納米技術(shù)。微/納米技術(shù)研究和探測(cè)物質(zhì)結(jié)構(gòu)的功能尺寸與分辨能力達(dá)到微米至納米級(jí)尺度,,使類在改造自然方面深入到原子,、分子級(jí)的納米層次。
& a, G6 k" F( O  ~' K! R& \, n9 ]
- @' N9 j* P2 r9 p3 p/ s納米級(jí)加工技術(shù)可分為加工精度和加工尺度兩方面,。加工精度由本世紀(jì)初的最高精度微米級(jí)發(fā)展到現(xiàn)有的幾個(gè)納米數(shù)量級(jí),。金剛石車床加工的超精密衍射光柵精度已達(dá)1nm,實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)可以制作10nm以下的線,、柱,、槽。
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微/納米技術(shù)的發(fā)展,,離不開(kāi)微米級(jí)和納米級(jí)的測(cè)量技術(shù)與設(shè)備,。具有微米及亞微米測(cè)量精度的幾何量與表面形貌測(cè)量技術(shù)已經(jīng)比較成熟,如HP5528雙頻激光干涉測(cè)量系統(tǒng)(精度10nm),、具有1nm精度的光學(xué)觸針式輪廓掃描系統(tǒng)等,。因?yàn)閽呙杷淼里@微鏡(STM,Scanning Tunning Microscope)、掃描探針顯微鏡(SPM,,Scanning Probe Microscope)和原子力顯微鏡(AFM,,Atomic Force Microscope)用來(lái)直接觀測(cè)原子尺度結(jié)構(gòu)的實(shí)現(xiàn),使得進(jìn)行原子級(jí)的操作,、裝配和改形等加工處理成為近幾年來(lái)的前沿技術(shù),。
2 Q6 ]  ~6 [4 b7 U+ w) r
5 w# d' k6 D# o+ y; w% q% U2.1 掃描探針顯微鏡 ! q0 A/ r! u$ ?$ G. r
3 k. `. p- U8 Z, G1 X
1981年美國(guó)IBM公司研制成功的掃描隧道顯微鏡(STM),把人們帶到了微觀世界,。STM具有極高的空間分辨率(平行和垂直于表面的分辨率分別達(dá)到0.1nm和0.01nm,,即可以分辨出單個(gè)原子),廣泛應(yīng)用于表面科學(xué),、材料科學(xué)和生命科學(xué)等研究領(lǐng)域,,在一定程度上推動(dòng)了納米技術(shù)的產(chǎn)生和發(fā)展。與此同時(shí),,基于STM相似的原理與結(jié)構(gòu),,相繼產(chǎn)生了一系列利用探針與樣品的不同相互作用來(lái)探測(cè)表面或界面納米尺度上表現(xiàn)出來(lái)的性質(zhì)的掃描探針顯微鏡(SPM),用來(lái)獲取通過(guò)STM無(wú)法獲取的有關(guān)表面結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的各種信息,,成為人類認(rèn)識(shí)微觀世界的有力工具,。下面為幾種具有代表性的掃描探針顯微鏡。
  W" B( R1 C7 k( e) r3 U% q+ j( @
, U' t0 ~0 s. L: x0 s/ R. R(1)原子力顯微鏡(AFM)
" Q) v3 S9 @( E6 `! T! K" V7 F* a2 C9 k; k
為了彌補(bǔ)STM只限于觀測(cè)導(dǎo)體和半導(dǎo)體表面結(jié)構(gòu)的缺陷,,Binnig等人發(fā)明了AFM,,AFM利用微探針在樣品表面劃過(guò)時(shí)帶動(dòng)高敏感性的微懸臂梁隨表面的起伏而上下運(yùn)動(dòng),,通過(guò)光學(xué)方法或隧道電流檢測(cè)出微懸臂梁的位移,實(shí)現(xiàn)探針尖端原子與表面原子間排斥力檢測(cè),,從而得到表面形貌信息,。就應(yīng)用而言,STM主要用于自然科學(xué)研究,,而相當(dāng)數(shù)量的AFM已經(jīng)用于工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域,。1988年中國(guó)科學(xué)院化學(xué)所研制成功國(guó)內(nèi)首臺(tái)具有原子分辨率的AFM。安裝有微型光纖傳導(dǎo)激光干涉三維測(cè)量系統(tǒng),,可自校準(zhǔn)和進(jìn)行絕對(duì)測(cè)量的計(jì)量型原子力顯微鏡可使目前納米測(cè)量技術(shù)定量化,。利用類似AFM的工作原理,檢測(cè)被測(cè)表面特性對(duì)受迫振動(dòng)力敏元件產(chǎn)生的影響,,在探針與表面10~100nm距離范圍,,可以探測(cè)到樣品表面存在的靜電力、磁力,、范德華力等作用力,,相繼開(kāi)發(fā)磁力顯微鏡(MFM,Magnetic Force Microscope),、靜電力顯微鏡(EFM,,Electrostatic Force Microscope)、摩擦力顯微鏡(LFM,,Lateral Force Microscope)等,,統(tǒng)稱為掃描力顯微鏡(SFM,Scanning Force Microscope),。 : C$ R2 e) l: M" P- t  C
! B( w, f: v& H8 v* x1 V
(2)光子掃描隧道顯微鏡(PSTM,,Photon Scanning Tunning Microscope)
" h8 t' h# Y4 W- @+ s6 V) p& [! e
- L1 h2 R, e" F4 L- s3 t% q9 R2 wPSTM的原理和工作方式與STM相似,后者利用電子隧道效應(yīng),,而前者利用光子隧道效應(yīng)探測(cè)樣品表面附近被全內(nèi)反射所激起的瞬衰場(chǎng),,其強(qiáng)度隨距界面的距離成函數(shù)關(guān)系,獲得表面結(jié)構(gòu)信息,。
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(3)其他顯微鏡
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如掃描隧道電位儀(STP,,Scanning Tunning Potentiometry)可用來(lái)探測(cè)納米尺度的電位變化;掃描離子電導(dǎo)顯微鏡(SICM,,Scanning Ion_Conductation Microscope)適用于進(jìn)行生物學(xué)和電生理學(xué)研究,;掃描熱顯微鏡(Scanning Thermal Microscope)已經(jīng)獲得了血紅細(xì)胞的表面結(jié)構(gòu);彈道電子發(fā)射顯微鏡(BEEM,,Ballistic Electron Emission Miroscope)則是目前唯一能夠在納米尺度上無(wú)損檢測(cè)表面和界面結(jié)構(gòu)的先進(jìn)分析儀器,國(guó)內(nèi)也已研制成功,。 1 s: p+ b/ F7 [. ^

( S0 L: h2 H; [& H8 u) H2.2 納米測(cè)量的掃描X射線干涉技術(shù)
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8 ^" O! i6 x! _$ g  @以SPM為基礎(chǔ)的觀測(cè)技術(shù)只能給出納米級(jí)分辨率,,卻不能給出表面結(jié)構(gòu)準(zhǔn)確的納米尺寸,,這是因?yàn)榈侥壳盀橹谷鄙僖环N簡(jiǎn)便的納米精度(0.10~0.01nm)尺寸測(cè)量的定標(biāo)手段。美國(guó)NIST和德國(guó)PTB分別測(cè)得硅(220)晶體的晶面間距為192015.560±0.012fm和192015.902±0.019fm,。日本NRLM在恒溫下對(duì)220晶間距進(jìn)行穩(wěn)定性測(cè)試,,發(fā)現(xiàn)其18天的變化不超過(guò)0.1fm。實(shí)驗(yàn)充分說(shuō)明單晶硅的晶面間距具有較好的穩(wěn)定性,。掃描X射線干涉測(cè)量技術(shù)是微/納米測(cè)量中的一項(xiàng)新技術(shù),,它正是利用單晶硅的晶面間距作為亞納米精度的基本測(cè)量單位,加上X射線波比可見(jiàn)光波波長(zhǎng)小兩個(gè)數(shù)量級(jí),,有可能實(shí)現(xiàn)0.01nm的分辨率,。該方法較其他方法對(duì)環(huán)境要求低,測(cè)量穩(wěn)定性好,,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,,是一種很有潛力的方便的納米測(cè)量技術(shù)。自從1983年D.G.Chetwynd將其應(yīng)用于微位移測(cè)量以來(lái),,英,、日、意大利相繼將其應(yīng)用于納米級(jí)位移傳感器的校正,。國(guó)內(nèi)清華大學(xué)測(cè)試技術(shù)與儀器國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室在1997年5月利用自己研制的X射線干涉器件在國(guó)內(nèi)首次清楚地觀察到X射線干涉條紋,。 8 M: R7 s4 ~7 C; M

6 {2 l9 [# L# Y% K  Y軟X射線顯微鏡、掃描光聲顯微鏡等用以檢測(cè)微結(jié)構(gòu)表面形貌及內(nèi)部結(jié)構(gòu)的微缺陷,。邁克爾遜型差拍干涉儀,,適于超精細(xì)加工表面輪廓的測(cè)量,如拋光表面,、精研表面等,,測(cè)量表面輪廓高度變化最小可達(dá)0.5nm,橫向(X,,Y向)測(cè)量精度可達(dá)0.3~1.0μm,。渥拉斯頓型差拍雙頻激光干涉儀在微觀表面形貌測(cè)量中,其分辨率可達(dá)0.1nm數(shù)量級(jí),。 * A: d% T5 O9 f3 d# c7 r

6 Y1 N" r/ T: C2 s/ b$ Z5 S2.3 光學(xué)干涉顯微鏡測(cè)量技術(shù) - n. u5 a5 ~- K1 Z) y! l" E

! ?  S: u% C* y' z6 |3 M( V光學(xué)干涉顯微鏡測(cè)量技術(shù),,包括外差干涉測(cè)量技術(shù)、超短波長(zhǎng)干涉測(cè)量技術(shù),、基于F-P(Febry-Perot)標(biāo)準(zhǔn)的測(cè)量技術(shù)等,,隨著新技術(shù)、新方法的利用亦具有納米級(jí)測(cè)量精度,。
+ S. _+ M9 n. [8 F
$ J" `* g2 h/ V) d; W8 g8 i) c" m外差干涉測(cè)量技術(shù)具有高的位相分辨率和空間分辨率,,如光外差干涉輪廓儀具有0.1nm的分辨率;基于頻率跟蹤的F-P標(biāo)準(zhǔn)具測(cè)量技術(shù)具有極高的靈敏度和準(zhǔn)確度,,其精度可達(dá)0.001nm,,但其測(cè)量范圍受激光器的調(diào)頻范圍的限制,,僅有0.1μm。而掃描電子顯微鏡(SEM,,Scanning Electric Microscope)可使幾十個(gè)原子大小的物體成像,。 1 Y9 F5 A' C' y) R
1 |- m  i6 ^9 \9 i
美國(guó)ZYGO公司開(kāi)發(fā)的位移測(cè)量干涉儀系統(tǒng),位移分辨率高于0.6nm,,可在1.1m/s的高速下測(cè)量,,適于納米技術(shù)在半導(dǎo)體生產(chǎn)、數(shù)據(jù)存儲(chǔ)硬盤和精密機(jī)械中的應(yīng)用,。 ' u: N+ w& F* |

' B# J; Y3 K2 _目前,,在微/納米機(jī)械中,精密測(cè)量技術(shù)一個(gè)重要研究對(duì)象是微結(jié)構(gòu)的機(jī)械性能與力學(xué)性能,、諧振頻率,、彈性模量、殘余應(yīng)力及疲勞強(qiáng)度等,。微細(xì)結(jié)構(gòu)的缺陷研究,,如金屬聚集物、微沉淀物,、微裂紋等測(cè)試技術(shù)的納米分析技術(shù)目前尚不成熟,。國(guó)外在此領(lǐng)域主要開(kāi)展用于晶體缺陷的激光掃描層析(Laser Scanning Tomograph)技術(shù),用于研究樣品頂部幾個(gè)微米之內(nèi)缺陷情況的納米激光雷達(dá)技術(shù)(Nanoladar),,其探測(cè)尺度分辨率均可達(dá)到1nm,。
5 R+ q2 M' ?2 q7 |9 t# N1 J
" {+ K; J8 t, g" B' o# _' |3 圖像識(shí)別測(cè)量技術(shù) % @' Q9 H% U3 z1 u9 L) e
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隨著近代科學(xué)技術(shù)的發(fā)展,幾何尺寸與形位測(cè)量已從簡(jiǎn)單的一維,、二維坐標(biāo)或形體發(fā)展到復(fù)雜的三維物體測(cè)量,,從宏觀物體發(fā)展到微觀領(lǐng)域。被測(cè)物體圖像中即包含有豐富的信息,,為此,,正確地進(jìn)行圖像識(shí)別測(cè)量已經(jīng)成為測(cè)量技術(shù)中的重要課題。圖像識(shí)別測(cè)量過(guò)程包括:(1)圖像信息的獲�,�,;(2)圖像信息的加工處理,特征提�,�,;(3)判斷分類。計(jì)算機(jī)及相關(guān)計(jì)算技術(shù)完成信息的加工處理及判斷分類,,這些涉及到各種不同的識(shí)別模型及數(shù)理統(tǒng)計(jì)知識(shí),。
6 b& @, k: t- w7 w" n
* G( E4 o( Q) z圖像測(cè)量系統(tǒng)一般由以下結(jié)構(gòu)組成,如圖1所示。以機(jī)械系統(tǒng)為基礎(chǔ),,線陣,、面陣電荷耦合器件CCD或全息照相系統(tǒng)構(gòu)成攝像系統(tǒng);信息的轉(zhuǎn)換由視頻處理器件完成電荷信號(hào)到數(shù)字信號(hào)的轉(zhuǎn)換,;計(jì)算機(jī)及計(jì)算技術(shù)實(shí)現(xiàn)信息的處理和顯示;反饋系統(tǒng)包括溫度誤差補(bǔ)償,,攝像系統(tǒng)的自動(dòng)調(diào)焦等功能,;載物工作臺(tái)具有三坐標(biāo)或多坐標(biāo)自由度,可以精確控制微位移,。 / Q" e- H" A3 \2 R9 V% w
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3.1 CCD傳感器技術(shù) 1 C# w+ A/ ?( ]" v
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物體三維輪廓測(cè)量方法中,,有三坐標(biāo)法、干涉法,、莫爾等高線法及相位法等,。而非接觸電荷耦合器件CCD(Charge Coupled Device)是近年來(lái)發(fā)展很快的一種圖像信息傳感器。它具有自掃描,、光電靈敏度高,、幾何尺寸精確及敏感單元尺寸小等優(yōu)點(diǎn)。隨著集成度的不斷提高,、結(jié)構(gòu)改善及材料質(zhì)量的提高,,它已日益廣泛地應(yīng)用于工業(yè)非接觸圖像識(shí)別測(cè)量系統(tǒng)中。在對(duì)物體三維輪廓尺寸進(jìn)行檢測(cè)時(shí),,采用軟件或硬件的方法,,如解調(diào)法、多項(xiàng)式插值函數(shù)法及概率統(tǒng)計(jì)法等,,測(cè)量系統(tǒng)分辨率可達(dá)微米級(jí),。也有將CCD應(yīng)用于測(cè)量半導(dǎo)體材料表面應(yīng)力的研究。 ( v' M) K& I- E! K' W% z1 u

0 L1 b; a& q9 P- u9 x9 h3.2 全息照相技術(shù) 3 t0 {+ c3 o  [; b$ ]6 L- M  `: d
8 L4 D* Y; E: Q6 K. _
全息照相測(cè)量技術(shù)是60年代發(fā)展起來(lái)的一種新技術(shù),,用此技術(shù)可以觀察到被測(cè)物體的空間像,。激光具有極好的空間相干性和時(shí)間相干性,通過(guò)光波的干涉把經(jīng)物體反射或透射后,,光束中的振幅與相位信息,。
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發(fā)表于 2008-3-20 18:13:12 | 只看該作者

謝樓主

謝謝,文章比較全面,。
* P0 i" i" C! i5 l' m# C+ N$ {樓主也是社區(qū)新人吧,,呵呵
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 樓主| 發(fā)表于 2008-3-21 09:07:39 | 只看該作者
剛來(lái)不久,這邊人氣很旺!我是做測(cè)量設(shè)備的,!可以在這邊認(rèn)識(shí)很多朋友,!
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發(fā)表于 2008-3-24 13:20:15 | 只看該作者
來(lái)不久,這邊人氣很旺) y6 h0 d% V% ?' \( \
非常好
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發(fā)表于 2008-3-31 17:05:07 | 只看該作者
大家好,,我畢業(yè)設(shè)計(jì)做三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)設(shè)計(jì),,多交流
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發(fā)表于 2008-5-11 09:41:48 | 只看該作者
很受用~ 謝謝
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發(fā)表于 2008-5-29 03:30:34 | 只看該作者
不錯(cuò)不錯(cuò)!!
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發(fā)表于 2008-8-15 09:22:37 | 只看該作者
現(xiàn)代精密測(cè)量技術(shù)現(xiàn)狀及發(fā)展
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發(fā)表于 2012-1-6 10:39:47 | 只看該作者
我是用這設(shè)備的,。剛接觸不久。有很多不明白的地方~~~~,!( t$ a' s4 ^. z! S: |2 Z" [

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