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CVD鑽石薄膜材料,,中國人搞的

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1#
發(fā)表于 2007-3-16 20:00:32 | 只看該作者 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式

+ K: h, z; e+ \8 O5 d( _# P) W

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X - 光分析 ( XRD ) – shimadzu XRD-6000 ( 40kv,,30mA,,step 0.02 deg.,,speed 4 deg. / min.fficeffice" />

# L6 f8 T+ h2 L( a" U n

 or 1 deg. / min.)

8 Y8 E9 b% t6 A: U7 B! ^

  ◎晶體結(jié)構(gòu)

$ v" q `4 c7 C8 V5 P( L( R- @* q

  Cubic

" c. n2 y+ V+ A! J' S- ^$ D3 Z

  ◎空間群

; u4 g9 t0 R! q: d) W

  Fd–ffice:smarttags" />3m

! a( e4 D- b% s9 F& J; R" g

  ◎晶格參數(shù)(R.T)

& x% W, y t1 Q: Y% y3 [; [ J& l

  (A) 3.570

; c3 F2 \# Q* D' v: P

  ◎密度(g/cm3)

0 m; q* I& Z3 w' x$ p

  3.508

& n$ \: F2 B3 q( u4 G9 R9 o

  ◎晶面(111)

8 J k P4 o8 {( Z) x, E/ o% i

  202

( t; n& b) Y* R; M1 z7 y' |

粗糙度分析 ( SPM ) - Thermo Microscopes CP Research  ( 50 μm * 50 μm )

- T* b+ N" |+ ?3 y ?" @* l3 U

◎中心線平均粗糙面Ra ( Ave. Rough )

/ i* p+ g3 w ?8 ~8 P

總面積 / 底長86.39 nm霧面,1.052 nm亮面,。

( K6 F0 s+ w! l5 ?

◎中心線均方根粗糙面Rq ( Rms Rough )

- f% a" ^* ?. w) i

104.8 nm霧面,,1.321 nm亮面。

% r J) u% |& C# f7 g" `$ O

Rp 250.4 nm霧面,,2.592 nm亮面,,Rv 189.1 nm霧面,6.156 nm亮面,。

- R, o5 H. {3 d, _: T

◎高低差異值為 8 nm 亮面,。

`. C4 b0 W: e5 t

 

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+ C F, p8 B( D4 x7 X

 

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6 l" `& y8 U, G% o/ e' D

 

5 _. U+ L2 U! m! a2 M

圖片:

9 Y/ g- i" |* @) m. |1 F- e3 u

顆粒顯微分析一

5 h* E. Q7 B8 h9 |# B9 d T

 http://images13.51.com/10/a/50/c6/jamesliu8029/c75c1677bcef434a879d7d44eeaad6f9.jpg

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顆粒顯微分析二

4 j+ O+ M4 {9 [

http://images13.51.com/8/a/50/c6/jamesliu8029/002cc1a954517aaa99a89fa79f5630f6.jpg

( ]& S5 _6 Z0 Q p3 l: d. w

顆粒顯微分析三

8 M& S! o8 N e- S2 e

http://images13.51.com/10/a/50/c6/jamesliu8029/77da81c0c62a779263590857a6c9a566.jpg

5 g, n/ Y3 [) P& [

顆粒顯微分析四

$ U0 n- c! \* K' w

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顆粒顯微分析五

5 C' b4 x: Y) q6 r: J# x& U4 k

http://images13.51.com/1/a/50/c6/jamesliu8029/9c35afd2e5743f30280c0bdcde90541c.jpg

' H! C( X; P8 Y" l9 Q

顆粒顯微分析六

* w3 U# d/ `1 R$ O$ W

http://images13.51.com/9/a/50/c6/jamesliu8029/45e49448cff9f6edffdd3dfc5fa04ad9.jpg

! S( q" Y4 `1 L" S% X7 B V$ g0 y

顆粒顯微分析七

" I @* q4 f2 j

http://images13.51.com/1/a/50/c6/jamesliu8029/aa0eb2392c3d8a47d29f8e3bb9cebd42.jpg

- p& p* a5 a$ t% J5 {

 

/ J4 a; K& ~& L

      

2#
 樓主| 發(fā)表于 2007-3-16 20:10:58 | 只看該作者

Re: 日本人行,中國人更行!!!

補(bǔ)充:# h( G4 e3 f9 \8 t/ g2 L
這是完全由中國人研發(fā)並拋光完成的CVD鑽石薄膜材料7 j8 D2 U+ s6 b3 m8 D. l5 I) i
日本人做到2吋!!中國人做到4吋0 z; w3 ?3 c6 x) [) @8 j: t
圖一是鑽石膜晶片拋光品質(zhì)
# m4 j4 ]$ @# ^$ d. y' ?3 z( Z& j圖二是拋光與未拋光之比較! \! ]9 X/ E  U& u
圖三至圖七是電子顯微鏡照片
3#
發(fā)表于 2007-3-16 20:25:53 | 只看該作者

Re: 日本人行,中國人更行!!!

呵呵,希望中國的各行各業(yè)都能像這樣超過日本人~~~~
4#
 樓主| 發(fā)表于 2007-3-20 23:50:30 | 只看該作者

Re: 日本人行,中國人更行!!!

為啥沒人頂??不懂材料特性??
7 e2 V* H- H) U+ i( K& n( t我再補(bǔ)充一下!!!
1 k( `  Q. w* p鑽石的硬度在100GPA密度3.2g/cm3以上,,熱傳導(dǎo)率1300~2100W/mK(銅397),,比熱1.81J/cm3K(銅3.4),熱擴(kuò)散率7.2~11.6cm2/s(銅1.16)+ ]1 d; a) Q  l' J4 s5 `+ r
其散熱及不沾粘性是世界公認(rèn)( U3 Q8 e  F* N. D
在電子應(yīng)用LED上可替代藍(lán)寶石基材,可作IC等散熱片
( x$ i% o8 G+ Q: H7 a1 x! ~在機(jī)械行業(yè)可用精密模具(如鏡片),、耐磨材料
, g! z4 \# f$ @$ F" p+ |/ {我的QQ是473137404
+ `" A- v9 R9 c1 z/ y3 k歡迎大家一起討論
5#
發(fā)表于 2007-3-21 09:40:11 | 只看該作者

Re: 日本人行,中國人更行!!!

不懂不懂,,請(qǐng)教:這種鉆石薄膜是柔性的嗎?可以做密封件嗎,?可以成型嗎,?是否有買?價(jià)格是否很貴,?謝謝,。
6#
 樓主| 發(fā)表于 2007-3-21 13:17:02 | 只看該作者

Re: 日本人行,中國人更行!!!

原帖由 滴水天 發(fā)表8 P/ h! R) M- R; x" `* E: Z+ o 不懂不懂,請(qǐng)教:這種鉆石薄膜是柔性的嗎,?可以做密封件嗎,?可以成型嗎?是否有買,?價(jià)格是否很貴,?謝謝。

3 i5 L" k- W1 O X- R3 J+ w+ N

這是平面剛性材料,因需拋光,才能達(dá)到1.052奈米的粗糙度,用於耐磨導(dǎo)靠零件,耐酸鹼,,可替代所有超硬材料,,現(xiàn)規(guī)格是四吋

# z6 t1 [1 \& w) h* L1 O6 E

可惜不是柔性的!!如有興趣研究者,可與我連系  

$ {/ R6 T- K( t8 G% [% j1 K- c: |

QQ: 473137404

7#
發(fā)表于 2007-3-21 14:31:38 | 只看該作者

Re: 日本人行,中國人更行!!!

想了解下:使用什么設(shè)備(哪國的)來制造的?
8#
 樓主| 發(fā)表于 2007-3-21 15:06:55 | 只看該作者

Re: 日本人行,中國人更行!!!

中國人自行開發(fā)的CVD設(shè)備

9#
發(fā)表于 2007-3-21 15:22:17 | 只看該作者

Re: 日本人行,中國人更行!!!

只知VCD,,CVD,?液晶面板。,。,。?
10#
 樓主| 發(fā)表于 2007-3-21 15:39:24 | 只看該作者

Re: 日本人行,中國人更行!!!

fficeffice" />化學(xué)氣相沉積技術(shù)(Chemical Vapor Deposition縮寫 CVD)

8 D% I) \4 m: C& K

ffice:word" />化學(xué)氣相沉積是製造微電子元件時(shí),,被用來沉積出特定薄膜(film)的技術(shù),,所沉積出的薄膜可以是介電(dielectrics)、導(dǎo)體、或半導(dǎo)體,。

6 L" c3 L! t! k3 [. ?

 

/ Z E/ g( k% A& U# m' ^! a

 

/ ^7 m! j" {; |

 

- n1 F* R9 m6 C5 n# r( i$ H

物理氣相沉積技術(shù)(Physical Vapor Deposition縮寫 PVD)

# n% `9 ?( T9 t2 |9 R% N6 e8 |

物理氣相沉積應(yīng)用方式與化學(xué)氣相沉積相似,,主要有三種製程:蒸鍍(Evaporation Deposition)、離子鍍(Ion Plating),、濺鍍(Sputtering Deposition)及衍生性濺鍍,。

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